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J-GLOBAL ID：201002204573284221   整理番号：10A0610590

超疎水性,超親水性,及び微細パターン化超疎水性/超親水性表面上の細胞付着性挙動の表面化学への相関

Correlation of Cell Adhesive Behaviors on Superhydrophobic, Superhydrophilic, and Micropatterned Superhydrophobic/Superhydrophilic Surfaces to Their Surface Chemistry

著者 (3件)： ISHIZAKI Takahiro (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Nagoya, JPN) ,  SAITO Nagahiro (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  TAKAI Osamu (Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 26  号： 11  ページ： 8147-8154  発行年： 2010年06月01日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： プラズマCVDと可視紫外照射により,微細パターン化超疎水性/超親水性表面を製作した。超疎水性,超親水性,及び超疎水性/超親水性表面の物理化学的性質を研究した。超疎水性/超親水性表面をNIH 3T3線維芽細胞培養のスキャフォールドとして用いた。微細パターン化表面上で細胞は超親水性領域に高選択性で付着し,パターンに従い円形ミクロアレイを形成する。細胞は超疎水性,超親水性どちらの表面にも付着して増殖するが,超疎水性表面上では細胞分裂と増殖には一定の期間が必要である。超親水性表面ではシーディング直後に細胞は簡単に付着し増殖する。蛋白質吸着も比較し,親水性表面上の方がかなり多かった。

シソーラス用語： *疎水性 ,  *親水性 ,  パターン形成 ,  *3T3細胞 ,  細胞培養 ,  基質 ,  培地 ,  プラズマCVD ,  紫外線照射 ,  光照射 ,  吸着 ,  *超疎水性 ,  *超親水性 ,  *NIH 3T3細胞 ,  スキャフォールド【基質】 ,  可視光照射 ,  蛋白質吸着 ,  ミクロパターン形成
準シソーラス用語： 微細パターン形成

分類 (3件)： 固-液界面  (CB12050B) ,  細胞分裂・増殖  (EF02020D) ,  物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P)

タイトルに関連する用語 (8件)： 疎水性 ,  親水性 ,  微細パターン ,  超疎水性 ,  細胞付着 ,  挙動 ,  表面化学 ,  相関