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J-GLOBAL ID：201002205069325673   整理番号：10A0403511

ポリアクリルアミドゲル上におけるベローゾフ・ザボチンスキー反応による空間周期定常パターン形成

著者 (2件)： 山田隆寛 (慶応大 理工) ,  朝倉浩一 (慶応大 理工)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 90th  号： 2  ページ： 360  発行年： 2010年03月12日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 平滑なポリアクリルアミドゲル上の溶液膜中にてベローゾフ・ザボチンスキー(BZ)反応を行うことにより,空間周期性を持つ定常的なパターンの形成が確認された。このパターンはフェロインを触媒に用いた場合には形成されたが,ルテニウム(2,2’-トリスビピリジル)錯体を用いた場合には形成されなかった。この定常的空間周期パターン形成が起こる条件を解析し,その形成機構について検討を行った。(著者抄録)

シソーラス用語： *ゲル ,  *ポリアクリルアミド ,  *Belousov-Zhabotinskii反応 ,  *パターン形成 ,  周期構造 ,  フェロイン ,  *触媒反応 ,  ルテニウム錯体 ,  立体構造 ,  液膜 ,  膜厚 ,  鉄触媒 ,  ルテニウム触媒 ,  化学組成 ,  反応機構 ,  窒素複素環化合物
準シソーラス用語： *ポリアクリルアミドゲル ,  空間構造

分類 (2件)： 高分子固体のその他の性質  (CG02025L) ,  不均一系触媒反応  (CB06100E)

物質索引 (1件)： 2,2′-ビピリジン

タイトルに関連する用語 (3件)： ポリアクリルアミドゲル ,  周期 ,  パターン形成