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J-GLOBAL ID:201002206165127455   整理番号:10A0496629

ナノ構造CdS膜のフェムト秒パルスレーザ蒸着

Femtosecond Pulsed Laser Deposition of Nanostructured CdS Films
著者 (6件):
資料名:
巻: 114  号: 11  ページ: 4864-4868  発行年: 2010年03月25日 
JST資料番号: W1877A  ISSN: 1932-7447  CODEN: JPCCCK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
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CdS焼結ターゲットからのフェムト秒パルスレーザ蒸着でSi(100)基板面上に調製したCdSナノ薄膜の組成,結晶性,表面形態に対するレーザ照射波長(266,400,800nm),レーザフルエンス,基板温度(25~450°C)などの効果を調べた。
シソーラス用語:
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分類 (3件):
分類
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半導体薄膜  ,  原子・分子のクラスタ  ,  レーザの応用 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
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