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J-GLOBAL ID：201002206340911059   整理番号：10A0467048

CoドープおよびNiドープ炭素薄膜の電気および機械特性の評価

Electrical and Mechanical Characteristics of Co-Doped and Ni-Doped Carbon Thin Films

著者 (3件)： YABE Mitsunori (NIHON AUTOMOBILE COLL., Chiba) ,  UMEMURA Shigeru (Chiba Inst. of Technol., Chiba) ,  HIRONO Shigeru (MES AFTY Corp., Tokyo)
資料名： 表面技術  (Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
巻： 61  号： 5  ページ： 379-383  発行年： 2010年05月01日 
JST資料番号： G0441B  ISSN： 0915-1869  CODEN： HYGIEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 金属ドーピングを用いて導電性,耐摩耗性の炭素薄膜を得るために,Si基板上にRFスパッタリングによりCo,Niドープ炭素薄膜を蒸着した。薄膜のドーパント濃度,電気抵抗率,引かき硬さ,炭素のsp²およびsp³結合の割合および微細構造の評価を行った。Coドープ膜の電気抵抗率はドーパント濃度が1at%の時には無ドープの炭素膜と比較して著しく低減し,ドーパント濃度の増大によりさらに僅かに低減した。ドーパント濃度の増大によりNiドープ膜の電気抵抗率は低減した。CoドープおよびNiドープ膜の引かき硬さは金属濃度がそれぞれ6at%および5at%以下の時には無ドープ膜とほぼ等しかった。Coドープ膜の引かき硬さはドーパント濃度が7at%を越えると僅かに低下した。一方,Niドープ膜の引かき硬さはドーパント濃度が7at%を越えると著しく低下した。ドーパント濃度が12at%以下のCoドープ膜は電気抵抗率が低く,引かき硬さが高いため,実用の観点から最も適している。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *炭素 ,  *薄膜 ,  *コバルト化合物 ,  ニッケル化合物 ,  *ドーピング ,  *電気抵抗率 ,  *引かき硬さ ,  化学結合 ,  微細構造 ,  ドーパント ,  化学組成 ,  耐摩耗性
準シソーラス用語： *炭素膜

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

引用文献 (9件)：

• 1) A. Grill ; Wear, 168, 143 (1993).
• 2) K. Schiffmann ; Wear, 216, 27 (1998).
• 3) T. Hayashi, S. Hirono, M. Tomita, and S. Umemura ; Nature, 381, 772 (1996).
• 4) T. You, O. Niwa, Z. Chen, K. Hayashi, M. Tomita, and S. Hirono ; Anal. Chem., 75, 5191 (2003).
• 5) S. Umemura, S. Misu-Matsuhashi, and S. Hirono ; IEICE Trans. on Electronics, E90-C, 1435 (2007).

タイトルに関連する用語 (6件)： CO ,  ドープ ,  Ni ,  炭素薄膜 ,  機械特性 ,  評価