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J-GLOBAL ID：201002206802610122   整理番号：10A0136001

Y₁Ba₂Cu₃O_7-δ薄膜に対する最適アニーリング条件

Optimal annealing conditions for Y₁Ba₂Cu₃O_7-δ thin films

著者 (3件)： MORI Zon (Kumamoto National Coll. of Technol., Yatsushiro, Kumamoto 866-8501, JPN) ,  DOI Toshiya (Fac. of Engineering, Kagoshima Univ., Koorimoto, Kagoshima 890-0065, JPN) ,  HAKURAKU Yoshinori (Fac. of Engineering, Kagoshima Univ., Koorimoto, Kagoshima 890-0065, JPN)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 107  号： 2  ページ： 023903  発行年： 2010年01月15日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Y₁Ba₂Cu₃O_7-δ(YBCO)の超電導電流密度,J_c,は正孔ドーピングの程度によって大きく影響される。正孔ドーピングは主に酸素の秩序によって決まる,それで事後アニーリング過程はYBCO超電導体の実際応用に本質的なファクターの1つである。然しアニーリング時間によるJ_cの変化の研究については殆どなにも報告されていない。この研究ではパルスレーザー蒸着法で用意されたc-軸が揃った一様なYBCO薄膜を用いて最適アニーリング条件を調べた。結果として,J_c(77K,0Tで)は0-12h領域のアニーリング時間で0.3から5.3MA/cm²に増加した。この結果はたとえ膜が250nmの厚みでも数十時間のアニーリングが高J_c試料を得るのに本質的であることを示唆している。酸素の拡散過程は1次元拡散模型を適用して調べた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *超伝導薄膜 ,  *YBCO薄膜 ,  *熱処理 ,  *最適化 ,  正孔 ,  *電流密度 ,  ドーピング ,  レーザ蒸着 ,  パルスレーザ蒸着 ,  キャリアドーピング ,  *改変

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (2件)： 薄膜 ,  アニーリング条件