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J-GLOBAL ID：201002210229582299   整理番号：10A0305155

FFC-CambridgeプロセスによるNiTi生産: プロセスパラメータの改善

NiTi Production via the FFC Cambridge Process: Refinement of Process Parameters

著者 (5件)： JACKSON B. K. (Imperial Coll. London, London, GBR) ,  INMAN D. (Imperial Coll. London, London, GBR) ,  JACKSON M. (Univ. Sheffield, Sheffield, GBR) ,  DYE D. (Imperial Coll. London, London, GBR) ,  DASHWOOD R. J. (Univ. Warwick, Coventry, GBR)
資料名： Journal of the Electrochemical Society  (Journal of the Electrochemical Society)
巻： 157  号： 3  ページ： E36-E43  発行年： 2010年 
JST資料番号： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： NiTi合金は形状記憶性,超弾性あるいは優れた摩耗耐性を有することから医療や飛行機のアクチュエータなど広く利用されている合金である。しかし,その合成はそれほど簡単ではなく(Niが析出しやすい),コストも高い。また,形状記憶性が保持される組成幅は狭く,49.0~50.7原子%Tiである。NiTi合金の合成法として,成分酸化物から直接,電気化学的に金属を生産するFFC-Cambridgeプロセスは理想的な方法である。本研究ではFFCプロセスによるNiTi生産のための以下の3つのプロセスパラメータの改善効果について検討した: (1)還元温度の効果,(2)電流コレクタ電極の材料の効果,(3)FFCセルの改善効果。Ni電流コレクタを用い,還元温度を1173~1273KにするとB2立方晶相(NiTiの高温相),それより低温で還元するとB19′単斜晶系相(低温相)が生成した。高温で還元するほど形状記憶特性に有害な効果をもたらす酸素が除去されるが,高温還元ではM_s温度が室温以下のB2立方晶相が生成するため使用範囲が制限される。Ti電流コレクタの代わりにNi電流コレクタを用いると生成物中のNi含有量が増加し,室温で高温B2立方晶相が安定化することが分かった。また,FFCセルの改善効果は大きく,シーリング品質が生成物の均一性に強く影響することを示した。

シソーラス用語： *ニッケル合金 ,  *チタン含有合金 ,  *形状記憶合金 ,  *電気化学反応 ,  カソード還元 ,  プロセスパラメータ
準シソーラス用語： *FFC-Cambridgeプロセス

分類 (2件)： 電気化学反応  (CB07050F) ,  その他の金属組織学  (WB01040Y)

タイトルに関連する用語 (3件)： プロセス ,  NiTi ,  プロセスパラメータ