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J-GLOBAL ID：201002212624197593   整理番号：10A0496173

高分子中の回折光学素子のフェムト秒レーザ直接描画

Femtosecond laser direct writing of diffractive optical elements in polymers

著者 (2件)： WATANABE Wataru (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Osaka, JPN) ,  MOCHIZUKI Hiroyuki (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Osaka, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7585  ページ： 75850B.1-75850B.6  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 解説  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： フィラメンテーションによるフェムト秒レーザ微細加工は高分子材料中の三次元光学素子の製作に利用される。本論文では,フィラメントによる屈折率修飾及び種々の高分子材料中の回折光学素子の作製への応用について解説した。装置はフェムト秒のTi:サファイアレーザ,光学系,三次元操作卓,PCからなる。ポリメチルペンテン試料中に10μm間隔の回折格子を作製した。また,ポリメタクリル酸メチル中に周期10μmの二次元回折光学素子を作製した。レーザ照射後の焼なましにより回折効率が向上した。

シソーラス用語： *レーザリソグラフィー ,  *光学素子 ,  フェムト秒 ,  レーザ加工 ,  マイクロマシニング ,  回折格子 ,  ポリメタクリル酸メチル ,  フィラメント ,  屈折率 ,  *パルスレーザ照射 ,  レーザ応用 ,  レーザビーム ,  ポリメチルペンテン ,  回折効率 ,  焼なまし
準シソーラス用語： レーザ直接描画 ,  *回折光学素子 ,  フィラメンテーション

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 高分子 ,  回折光学素子 ,  フェムト秒レーザ ,  直接描画