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J-GLOBAL ID：201002214482774213   整理番号：10A0626903

フェニルトリエトキシシラン前駆体を用いたマグネシウムのゾル-ゲル法による保護被覆の評価

Characterization of protective sol-gel coatings on magnesium based on phenyl-triethoxysilane precursor

著者 (6件)： YEKEHTAZ M. (Technische Universitaet Darmstadt, Dep. of Materials Sci., Petersenstr. 23, 64287 Darmstadt, DEU) ,  SITTNER F. (Technische Universitaet Darmstadt, Dep. of Materials Sci., Petersenstr. 23, 64287 Darmstadt, DEU) ,  UGAS-CARRION R. (Technische Universitaet Darmstadt, Dep. of Materials Sci., Petersenstr. 23, 64287 Darmstadt, DEU) ,  FLEGE S. (Technische Universitaet Darmstadt, Dep. of Materials Sci., Petersenstr. 23, 64287 Darmstadt, DEU) ,  BROETZ J. (Technische Universitaet Darmstadt, Dep. of Materials Sci., Petersenstr. 23, 64287 Darmstadt, DEU) ,  ENSINGER W. (Technische Universitaet Darmstadt, Dep. of Materials Sci., Petersenstr. 23, 64287 Darmstadt, DEU)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 518  号： 18  ページ： 5223-5226  発行年： 2010年07月01日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： マグネシウム試料の防食のためにフェニルトリエトキシシラン前駆体からゾル-ゲル法によって保護被覆をコーティングした。膜の多孔性を動電位スキャンによって測定し,被覆の構造を二次イオン質量分析及びX線回折を用いて評価した。基板と被覆の界面で,コーティングプロセス中の相互拡散によって形成されたケイ酸マグネシウム層を認めた。コーティングした試料では,比較的低温の加熱後に,良好な耐食性と低い多孔性を確認した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 前駆体 ,  *マグネシウム ,  ゾル-ゲル法 ,  *防食 ,  保護膜 ,  *二次イオン質量分析 ,  X線回折 ,  相互拡散 ,  *ケイ酸マグネシウム ,  多孔性 ,  疎水性 ,  電気化学的腐食試験
準シソーラス用語： 保護被覆層

分類 (2件)： 防食  (WB03040M) ,  電極過程  (CB07040U)

物質索引 (1件)： フェニルトリエトキシシラン

タイトルに関連する用語 (5件)： フェニルトリエトキシシラン ,  前駆体 ,  マグネシウム ,  ゾル-ゲル法 ,  評価