文献

J-GLOBAL ID：201002214936367510   整理番号：10A0905453

Pd薄膜システムにおける水素化物形成の原位置監視

In-situ monitoring of hydride formation in Pd thin film systems

著者 (3件)： DELMELLE R. (Div. of Materials and Process Engineering, Univ. catholique de Louvain, Place Sainte-Barbe 2, B-1348 ...) ,  BAMBA G. (Div. of Materials and Process Engineering, Univ. catholique de Louvain, Place Sainte-Barbe 2, B-1348 ...) ,  PROOST J. (Div. of Materials and Process Engineering, Univ. catholique de Louvain, Place Sainte-Barbe 2, B-1348 ...)
資料名： International Journal of Hydrogen Energy  (International Journal of Hydrogen Energy)
巻： 35  号： 18  ページ： 9888-9892  発行年： 2010年09月 
JST資料番号： B0192B  ISSN： 0360-3199  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,Pd薄膜の水素化および脱水素化を原位置で監視した。実験技法は高分解能曲率計測装置で構成し,この装置は片持ち支持したサンプルから到来する複数レーザビームの反射を連続的に監視する。高真空チャンバ内部にサンプルを取付けた後,Hを含む混合気体を導入して,瞬時にチャンバ内に目標とする水素分圧(p_H2)を生成する。この結果発生するHとPd層の相互作用によって薄膜系の体積膨張を生じ,これが水素化物の形成によってPd薄膜内に生成する内部応力のためにサンプル曲率の変化を誘起することになる。本論文では,水素化/脱水素化サイクルの際に実時間で行うこのような高分解能曲率計測によって,どのように水素化物形成の反応力学を詳細に解析できるかを実証した。さらに,本実験装置によって水素化メカニズムの可逆性を検討することも可能である。この点に関して,筆者らの結果は完全水素化/脱水素化サイクルの後に残留曲率が存在することを示した。サンプルを複数サイクルに曝した場合,水素分圧を徐徐に低減した場合であっても,上記の残留値は一定を保つことが分った。最後に,このような複数サイクリング実験の場合,水素化時の平衡応力レベルのp_H2依存性はSievertの法則を定量的に確認するであることを実証した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *水素化物 ,  *水素吸蔵 ,  パラジウム ,  薄膜 ,  曲率 ,  変化 ,  計測 ,  反応速度論 ,  可逆変化 ,  残留歪 ,  繰返し試験 ,  原位置試験

分類 (2件)： その他の金属組織学  (WB01040Y) ,  気体燃料の輸送,供給,貯蔵  (YE02060M)

タイトルに関連する用語 (3件)： Pd ,  薄膜 ,  水素化物