文献

J-GLOBAL ID：201002215418276982   整理番号：10A0676866

固体中の第三世代セファロスポリンセフジニル及びセフィキシムのγ線及び電子ビーム殺菌の研究

Study on gamma and electron beam sterilization of third generation cephalosporins cefdinir and cefixime in solid state

著者 (4件)： SINGH Babita K. (Dep. of Chemistry, RTM Nagpur Univ. Campus, Amravati Road, Nagpur 440033, IND) ,  PARWATE Dilip V. (Dep. of Chemistry, RTM Nagpur Univ. Campus, Amravati Road, Nagpur 440033, IND) ,  DAS SARMA Indrani B. (Jhulelal Inst. of Technol., Nagpur, IND) ,  SHUKLA Sudhir K. (Central Forensic Sci. Lab., Chandigarh, IND)
資料名： Radiation Physics and Chemistry  (Radiation Physics and Chemistry)
巻： 79  号： 10  ページ： 1079-1087  発行年： 2010年10月 
JST資料番号： D0627A  ISSN： 0969-806X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 固体中の二種類の熱不安定なセファロスポリン系抗生物質(セフジニルとセフィキシム)に対する⁶⁰Coγ線と2MeV電子ビームの影響を調べた。放射線分解を評価するために調べたパラメータは化学的効力と微生物学的効力,旋光の変化,電子及び振動吸収特性,熱特性,変色である。ESR分光法研究,HPLC関連不純物分布,サーモグラム,Ramanスペクトルを適用して,放射線分解不純物の性質とそれらの形成仮説を逆推定した。セフィキシムは放射線感受性であったが,セフジニルは25kGy線量で許容できる耐放射線性を示した。放射線分解関連不純物の性質とその濃度はラクタム環が直接放射線攻撃に高感受性ではなくいことを示したが,これは一方ではストレス(熱,薬品,光化学)に非常に敏感であると考えられる。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： セファロスポリン類 ,  γ線照射 ,  電子照射 ,  放射線感受性 ,  放射線分解 ,  旋光性 ,  ESR【磁気共鳴】 ,  高速液体クロマトグラフィー ,  Ramanスペクトル ,  耐放射線性 ,  放射線効果 ,  *放射線殺菌 ,  ラクタム ,  ウレア化合物 ,  オキシムエーテル ,  ビニル化合物 ,  硫黄複素環化合物 ,  ケト酸 ,  オキシム
準シソーラス用語： 旋光

分類 (1件)： 照射効果・利用  (MC01050C)

物質索引 (2件)： セフィキシム ,  セフジニル

タイトルに関連する用語 (7件)： 固体 ,  世代 ,  セフィキシム ,  γ線 ,  電子ビーム ,  殺菌 ,  研究