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J-GLOBAL ID：201002215608752560   整理番号：10A0949021

シリコン基板洗浄の解析~高効率太陽電池製造法の開発~

著者 (3件)： 江田善昭 (大分県産業科技セ) ,  安部ゆかり (大分県産業科技セ) ,  二宮信治 (大分県産業科技セ)
資料名： 大分県産業科学技術センター研究報告(Web)  (大分県産業科学技術センター研究報告書(Web))
巻： 2008  ページ： 16-20 (WEB ONLY)  発行年： 2009年06月11日 
JST資料番号： U0161A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： テクスチャリング前洗浄のメカニズムの解明のために,テクスチャの表面分析と使用済み洗浄液の成分分析を試みた。テクスチャ形成のメカニズムを調べるため,SEM-EDSによるテクスチャのマッピングを検討したが,有意のパターンは見られなかった。(著者抄録)

シソーラス用語： 太陽電池 ,  洗浄 ,  洗浄剤 ,  分析 ,  *テクスチャ処理 ,  *表面分析 ,  走査電子顕微鏡 ,  エネルギー分散X線分光分析
準シソーラス用語： *シリコン基板洗浄 ,  *成分分析 ,  *洗浄液

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (5件)：

• 一例として, 江刺正喜ら,「マイクロマシーニングとマイクロメカトロニクス」培風館 (1992)
• 式田光宏,「MEMS によるウェットエッチング技術」,「ウェットエッチングの不良要因とその対策」セミナー・テキスト, 技術情報協会 (2008)
• 江田善昭,「TMAH によるシリコンのウェットエッチング--化学の目で見たウェットエッチング--」,「ウェットエッチングの不良要因とその対策」セミナー・テキスト, 技術情報協会 (2008)
• 江田善昭, K Min,「TMAH によるSi のウェットエッチング」 http://www.oita-ri.go.jp/report/2004/2004_6.pdf
• 江田善昭,「TMAH によるシリコンのウェットエッチング--化学の目で見たウェットエッチング--」,「エッチング技術」, 印刷中, 技術情報協会,(2009)

タイトルに関連する用語 (6件)： シリコン基板洗浄 ,  解析 ,  高効率 ,  太陽電池 ,  製造法 ,  開発