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J-GLOBAL ID：201002216078246753   整理番号：10A1324361

垂直磁気トンネル接合用FePdB中間層

FePdB layer for perpendicular magnetic tunnel junctions

著者 (3件)： CHOI Gyung-min (Korea Inst. of Sci. and Technol. (KIST), Seoul 136-791, KOR) ,  MIN Byoung-chul (Korea Inst. of Sci. and Technol. (KIST), Seoul 136-791, KOR) ,  SHIN Kyung-ho (Korea Inst. of Sci. and Technol. (KIST), Seoul 136-791, KOR)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 97  号： 20  ページ： 202503  発行年： 2010年11月15日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 著者らは,垂直磁気トンネル接合(p-MTJs)にFePdB合金層を使用する可能性について研究した。FePdB膜の垂直磁気異方性(PMA)は,適切なテンプレート上に非晶質Fe₄₀Pd₄₀B₂₀層を作製し,そのポストアニーリングによって生じた。Pt(001)下地厚層上のFePdB膜は,4.9×10⁶erg/cm³のPMAエネルギー(K_u)を有し,2つのMgO(001)薄層でサンドイッチ構造にしたFePdB層は,3.7×10⁶erg/cm³のK_uを示した。FePdB中間層を持つ二重障壁p-MTJは,6.8%のトンネル磁気抵抗を示した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *垂直磁気異方性 ,  *トンネル接合 ,  非晶質磁性体 ,  鉄合金 ,  パラジウム含有合金 ,  ホウ素含有合金 ,  磁性薄膜 ,  膜厚 ,  型 ,  マグネトロンスパッタリング ,  焼なまし ,  下層 ,  白金 ,  マグネシウム化合物 ,  酸化物 ,  単結晶 ,  基板 ,  熱酸化 ,  ケイ素 ,  サンドイッチ構造 ,  *層 ,  曲線 ,  磁気抵抗
準シソーラス用語： テンプレート【型】 ,  トンネル磁気抵抗 ,  ヒステリシスループ ,  下地層 ,  *磁気トンネル接合 ,  磁場中焼鈍 ,  *中間層

分類 (1件)： 金属-絶縁体-金属構造  (BM03087F)

タイトルに関連する用語 (3件)： 垂直 ,  磁気トンネル接合 ,  中間層