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J-GLOBAL ID：201002216082417120   整理番号：10A0605515

磁場アニーリングによる傾斜堆積粒状膜に対する磁気的性質の研究

Investigation of magnetic properties for oblique deposited granular films by magnetic field annealing

著者 (6件)： ZHANG Bangmin (Key Lab. for Magnetism and Magnetic Materials of Ministry of Education, Lanzhou Univ., Lanzhou 730000, CHN) ,  GE Shihui (Key Lab. for Magnetism and Magnetic Materials of Ministry of Education, Lanzhou Univ., Lanzhou 730000, CHN) ,  ZUO Huaping (Key Lab. for Magnetism and Magnetic Materials of Ministry of Education, Lanzhou Univ., Lanzhou 730000, CHN) ,  XIAO Yuhua (Key Lab. for Magnetism and Magnetic Materials of Ministry of Education, Lanzhou Univ., Lanzhou 730000, CHN) ,  WANG Guowei (Key Lab. for Magnetism and Magnetic Materials of Ministry of Education, Lanzhou Univ., Lanzhou 730000, CHN) ,  ZHANG Li (Key Lab. for Magnetism and Magnetic Materials of Ministry of Education, Lanzhou Univ., Lanzhou 730000, CHN)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 256  号： 21  ページ： 6168-6171  発行年： 2010年08月15日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 異なる斜め入射角θをもつマグネトロンスパッタリングにより(Fe₅₇Co₂₄Ni₄Nb₂B₁₃)_x-(SiO₂)_1-xナノ粒状薄膜の系列を作製し,非常に優れたソフト磁気的性質を達成した。異なる温度T_aでの磁場アニールの結果に基づいて原子対の配向がアニーリング処理に寄与し,そして磁気異方性を操作できたことを明らかにした。減衰係数αは角度θの増大とともに減少し,これは異方性散逸に帰着される。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： マグネトロンスパッタリング ,  *スパッタ蒸着 ,  ナノ粒子 ,  蒸着膜 ,  *鉄化合物 ,  *コバルト化合物 ,  ニッケル化合物 ,  ニオブ化合物 ,  ホウ化物 ,  *酸化ケイ素 ,  *混合物 ,  *熱処理 ,  *磁気異方性 ,  *磁気ヒステリシス
準シソーラス用語： 斜め入射 ,  軟磁性

分類 (1件)： その他の無機化合物の磁性  (BM06060P)

タイトルに関連する用語 (5件)： 磁場 ,  アニーリング ,  堆積 ,  磁気的性質 ,  研究