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J-GLOBAL ID：201002216186817872   整理番号：10A1025689

アルミニウム表面技術の進歩-その現状と将来への課題-

著者 (3件)： AHN Chung Il (ANODA) ,  丸田正敏 (キザイ) ,  佐藤敏彦
資料名： アルトピア  (Alutopia)
巻： 40  号： 10  ページ： 109-114  発行年： 2010年10月15日 
JST資料番号： S0101B  ISSN： 0285-5240  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： アルミニウム表面処理技術の最近の進歩について概観し,硫酸浴でアルマイト電解した多孔質皮膜を水洗する技術,及び多孔質皮膜へ金属等を充填する技術に関連した特許を紹介した。半導体装置で使用するアルマイト皮膜では,水洗工程が重要である。それらの技術として,超純水での超音波洗浄,超臨界流体での洗浄,洗浄が不要な皮膜に関する特許を示した。アルマイト孔中に金属または物質を充填する技術に関連して,交流電解着色法でチタン光触媒皮膜を析出させる方法,超臨界流体中での磁性物質の充填,及びカーボンナノチューブ内への磁性金属の充填技術等を紹介した。環境に配慮した表面処理剤を使用する方法として,陽極酸化皮膜の封孔処理やアルミニウム合金用封孔処理剤に関する特許がある。

シソーラス用語： *アルミニウム ,  アルマイト ,  *封孔処理 ,  多孔性 ,  化成皮膜 ,  水洗 ,  超純水 ,  超音波洗浄 ,  超臨界流体 ,  *特許 ,  電解着色 ,  チタン ,  磁性体 ,  カーボンナノチューブ ,  陽極酸化処理 ,  *化成処理

分類 (1件)： 化成処理  (WC08050J)

タイトルに関連する用語 (3件)： アルミニウム ,  現状 ,  将来