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J-GLOBAL ID：201002218462761358   整理番号：10A0461322

モノリシック単結晶シリコンで作成した2次元フォトニック結晶

Two-Dimensional Photonic Crystals Fabricated in Monolithic Single-Crystal Silicon

著者 (5件)： HADZIALIC Sanja (UniK, Kjeller, NOR) ,  HADZIALIC Sanja (Univ. Oslo, Oslo, NOR) ,  KIM Sora (General Electric Global Res. Center, NY, USA) ,  SUDBO Aasmund Sveinung (Fac. Mathematics and Natural Sci., Univ. Oslo, UniK, Kjeller, NOR) ,  SOLGAARD Olav (Stanford Univ., CA, USA)
資料名： IEEE Photonics Technology Letters  (IEEE Photonics Technology Letters)
巻： 22  号： 1/4  ページ： 67-69  発行年： 2010年01月01日 
JST資料番号： T0721A  ISSN： 1041-1135  CODEN： IPTLEL  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標準シリコンウェハ上にCMOS互換技術でPC(フォトニック結晶)を作成する方法をのべる。PC孔の構造は半径r,高さhの円筒と半径Rの球状アンダーカットでモデル化される。すべての構造はモノリシックシリコン上に作られていて,製造プロセスは非常に簡単であり残留応力が少ない。更にこのプロセスは3D構造の作成にも適用できる。波長1200~1700nmの範囲で実験を行った。大きなアンダーカットをもつPCでは,波長1420~1520nmの範囲で90%以上の反射率を示す。小さなアンダーカット構造の場合にはいくつかの共振点が現れる。パラメータr,h,R及び孔のピッチを変えてFDTD法によりシミュレーションを行った。

シソーラス用語： *フォトニックバンドギャップ ,  *光学素子 ,  CMOS構造 ,  共振 ,  シミュレーション ,  有限差分時間領域法 ,  *結晶成長 ,  反射率 ,  ケイ素 ,  単結晶 ,  *フォトニック結晶
準シソーラス用語： 単結晶シリコン

分類 (2件)： 量子光学一般  (BD04010X) ,  光デバイス一般  (BD06010L)

タイトルに関連する用語 (2件)： 単結晶シリコン ,  2次元フォトニック結晶