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J-GLOBAL ID:201002218545218044   整理番号:10A0723106

単結晶ケイ素のナノインデンテーション挙動及びミクロ組織発展に及ぼす荷重効果

Load Effects on Nanoindentation Behaviour and Microstructural Evolution of Single-Crystal Silicon
著者 (4件):
資料名:
巻: 51  号:ページ: 1173-1177 (J-STAGE)  発行年: 2010年 
JST資料番号: G0668A  ISSN: 1345-9678  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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Berkovich圧子及び30mN,40mN,70mNの最大圧痕荷重を用いて,単結晶ケイ素ウェハにナノインデンテーション試験を行った。透過型電子顕微鏡及び制限視野回折技術を用いて,圧痕試験片のミクロ組織展開を調査した。30mNの最大荷重に圧痕した試験片の除荷曲線は滑らかなプロファイルルだったが,40mN又は70mNに圧痕した試験片のそれはポップアウト特徴があることが結果から分った。ケイ素試験片のYoung率と硬度は,圧痕荷重が上昇すると減少し,70mNの最大圧痕荷重下で,それぞれ値が15.8GPaと182GPaだった。更に,ケイ素試験片の圧痕影響部において圧痕荷重とミクロ組織変化との強い相関関係を観測した。特に,30mNの最大荷重に圧痕した試験片における圧痕部分内に完全な非晶質相が誘起された一方で,40mNと70mNに荷重した試験片における圧痕部分に,非晶質相とナノ結晶相で構成する混合組織が見つかった。除荷曲線の荷重依存性の性質は種々な圧痕荷重下の種々な相変態機構の発生に関連していることをミクロ組織観察は暗示した。(翻訳著者抄録)
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分類 (1件):
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固体デバイス材料 
引用文献 (21件):
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