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J-GLOBAL ID：201002218565597386   整理番号：10A0764728

レーザー回折・散乱式粒度分布測定装置 型式:LMS-2000e 溶媒微少量湿式測定及び試料微少量乾式ワンショット測定

著者 (2件)： 阿川直樹 (セイシン企業) ,  胸組透 (セイシン企業)
資料名： 粉体工学会・日本粉体工業技術協会技術討論会・テキスト
巻： 45th  ページ： 8-9  発行年： 2010年06月15日 
JST資料番号： L1763A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *粒度分布 ,  *光回折 ,  湿式法 ,  超音波照射 ,  粒径
準シソーラス用語： レーザ回折

分類 (1件)： 長さ,面積,断面,体積,容積,角度の計測法・機器  (AD05020O)

タイトルに関連する用語 (10件)： レーザー回折 ,  散乱 ,  粒度分布 ,  測定装置 ,  型式 ,  LMS ,  溶媒 ,  微少量 ,  試料 ,  ショット