文献

J-GLOBAL ID：201002218566796366   整理番号：10A0677569

アパタイト構造を有する新しいビスマスカルシウムオキシシリカート: 合成及び構造的性質

New bismuth calcium oxysilicate with apatite structure: Synthesis and structural characterization

著者 (3件)： UVAROV Vladimir (The Unit for Nanoscopic Characterization, The Center for Nanoscience and Nanotechnology, The Hebrew Univ. of ...) ,  SHENAWI-KHALIL Sanaa (Casali Inst. of Applied Chemistry, The Inst. of Chemistry, The Hebrew Univ. of Jerusalem, Jerusalem 91904, ISR) ,  POPOV Inna (The Unit for Nanoscopic Characterization, The Center for Nanoscience and Nanotechnology, The Hebrew Univ. of ...)
資料名： Journal of Solid State Chemistry  (Journal of Solid State Chemistry)
巻： 183  号： 7  ページ： 1484-1489  発行年： 2010年07月 
JST資料番号： H0505A  ISSN： 0022-4596  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アパタイト構造を有する新しいビスマスカルシウムけい素オキシドCa₄Bi_4.3(SiO₄)(HSiO₄)₅O_0.95を合成した。構造を粉末X線回折データから精査した。精査では,相が,単位格子パラメータa=b=9.6090(7)Å,c=7.0521(7)Å,V=563.9ų,及びc/a=0.734のP6₃/m(176)空間群を有することが明らかになった。Rietveld法のR_wp因子は,0.082に等しかった。合成された相は,結晶格子に異常な量のカチオン空格子点を有していた。格子の過剰電荷の補償のメカニズムを,FT-IR分光法,熱分析及びXPS分析を試験的に用いて,検討及び確認した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *燐灰石 ,  *ビスマス化合物 ,  *カルシウム化合物 ,  *ケイ酸塩 ,  X線回折 ,  結晶格子 ,  同形置換 ,  不純物補償 ,  Rietveld法 ,  化学合成
準シソーラス用語： *アパタイト ,  *ケイ酸塩化合物 ,  電荷補償 ,  粉末X線回折

分類 (2件)： 塩  (CD01050V) ,  その他の無機化合物の結晶構造  (BK07030J)

タイトルに関連する用語 (2件)： アパタイト ,  構造的性質