抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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著者らは,MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)技術を用いてシリコンウェハ上に流路を形成したチップカラムを開発し,さらにチップカラムを内蔵したマイクロガスクロマトグラフ(μGC)装置を開発した。本稿では,チップカラムの加工およびコーティングプロセス,ガスクロマトグラフによる評価結果について述べる。また,チップカラムを搭載したマイクロGCのプロトタイプ機の開発についても述べ,その性能を報告する。5%フェニル-/95%ジメチル-ポリシロキサンを液相としてコーティングしたチップカラムを従来のGC装置で用いたところ,約35000段の理論段数が得られ,それはキャピラリーカラムの理論段数とほぼ同等であった。チップカラムの理論段高さの極小値は,実験値が計算値の1.2倍となり,作製したチップカラムが理論的に予測されたものと近い性能を持つことが分かった。チップカラムをプロトタイプのμGC装置で用いたところ,理論段数は約35000程度となり,前述の従来のGCでチップカラムを用いた場合とほぼ同等の結果が得られた。(著者抄録)