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J-GLOBAL ID：201002218954758760   整理番号：10A0704024

スパッター堆積したヒドロキシアパタイト膜の結晶度に対する水熱温度およびpHの影響

Influence of the hydrothermal temperature and pH on the crystallinity of a sputtered hydroxyapatite film

著者 (3件)： OZEKI K. (Dep. of Mechanical Engineering, Ibaraki Univ., 4-12-1, Nakanarusawa, Hitachi, Ibaraki, 316-8511 Japan) ,  AOKI H. (International Apatite Co., Ltd., 20 Kanda-Ogawamachi 3-Chome, Chiyoda-ku, Tokyo 101-0052, JPN) ,  MASUZAWA T. (Dep. of Mechanical Engineering, Ibaraki Univ., 4-12-1, Nakanarusawa, Hitachi, Ibaraki, 316-8511 Japan)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 256  号： 23  ページ： 7027-7031  発行年： 2010年09月15日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 無線周波数スパッタリングを用いてチタン基板上にヒドロキシアパタイト(HA)を被覆し,スパッター堆積した膜は7.0および9.5のpH値において110~170°Cで水熱条件下で結晶化した。それぞれX線回折,エネルギー分散X線分光法,そして走査型電子顕微鏡法を用いて膜の結晶寸法,残留膜厚,そして表面形態を観察した。結晶寸法は過程温度とともに増大し,24時間後に123.6nmに達した(pH9.5および170°C)。pH9.5で処理した膜のすべての結晶寸法は,各過程温度でpH7.0で処理した膜よりも高かった。pH9.5で処理した膜は各過程温度で初期膜厚の90%以上を保持していた。pH7.0で処理した膜の比は150°Cより低い温度では90%に達せず,過程温度とともに増大する傾向を示した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ヒドロキシアパタイト ,  *スパッタ蒸着 ,  結晶度 ,  基板 ,  チタン ,  *熱処理 ,  *結晶化 ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  pH依存性 ,  粒径 ,  *燐灰石
準シソーラス用語： 水熱処理

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (5件)： スパッター堆積 ,  ヒドロキシアパタイト ,  結晶度 ,  水 ,  pH