文献

J-GLOBAL ID：201002219193241136   整理番号：10A0946643

直流定電流によるチタンのパターニングアノード酸化

Patterned anodic oxidation of titanium at a constant direct current.

著者 (6件)： 玉川泰裕 (近畿大 大学院総合理工学研究科) ,  堀川袷志 (近畿大 リエゾンセ) ,  野間直樹 (近畿大 理工) ,  岩崎光伸 (近畿大 大学院総合理工学研究科) ,  岩崎光伸 (近畿大 リエゾンセ) ,  岩崎光伸 (近畿大 理工)
資料名： 材料技術  (Material Technology)
巻： 28  号： 4  ページ： 146-150  発行年： 2010年07月25日 
JST資料番号： Y0644A  ISSN： 0289-7709  CODEN： MTECFQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ゾル-ゲル法によりTi板上にTiO₂ゲル膜とコーティングし,紫外線照射してパターニング化した後,アノード酸化することでミクロンオーダのパターン周期と凹凸を有する酸化チタン厚膜を作製した。電流密度(5~10A/dm^-2),電解時間(5~20分)を変化させ,火花放電下で直流定電流電解法によりアノード酸化を行い,アノード酸化皮膜の表面をSEMとレーザ顕微鏡で観察した。その結果,次のことが分かった。1)200μm間隔でTiO₂ゲル膜がTi板上にコーティングされている,2)パターニング型TiO₂ゲル膜/Ti板をアノード酸化するとパターニング形状とほぼ同等の200μm間隔のストライブが維持されている,3)パターニング幅として最小で200μm,段差は最高11μmのものが得られる。

シソーラス用語： *チタン ,  酸化チタン ,  ゾル-ゲル法 ,  紫外線照射 ,  *パターン形成 ,  電流密度 ,  アノード酸化 ,  電解 ,  *酸化膜 ,  火花放電 ,  *陽極酸化皮膜

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  化成処理  (WC08050J)

引用文献 (6件)：

• K. H. Park, S. J. Heo, J. Y. Koak, S. K. Kim, J. B. Lee, S. H. Kim and Y. J. Lim, J. Oralo Rehabilitation, 34, 517-527 (2007).
• T. Kokubo, H. M. Kim, M. Kawashita, T. Nakamura, J. Mater. Sci.; Mater. Medi. 15, 99-107 (2004).
• H. Ishizawa, M. Ogino, J. Biomed. Mater. Res., 29, 65-72 (1995).
• H. M. Kim, F. Miyaji, T. Kokubo, J. Mater. Sci. Mater. I. Medi., 8, 341-347 (1997).
• 武田昭二,大島浩,筧晋平,加藤浩二,中村正明; 歯科材料・器械, 23(2) 143 (2004).

タイトルに関連する用語 (4件)： 直流 ,  チタン ,  パターニング ,  アノード酸化