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J-GLOBAL ID：201002219313933657   整理番号：10A1231839

450度Cでの反応性熱化学気相蒸着による多結晶シリコン薄膜の蒸着とキャラクタリゼーション

Deposition and characterization of polycrystalline silicon thin-films by reactive thermal chemical vapour deposition at 450 degrees C

著者 (3件)： LEE Jw ,  SHIMIZU K ,  HANNA J
資料名： POLYCRYSTALLINE SEMICONDUCTORS VII, PROCEEDINGS
ページ： 281-286  発行年： 2003年 
JST資料番号： I20030812  ISSN： 1012-0394  ISBN： 3-908450-79-9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： その他 (ZZZ)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (6件)： 反応性 ,  熱化学気相蒸着 ,  多結晶 ,  シリコン薄膜 ,  蒸着 ,  キャラクタリゼーション