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J-GLOBAL ID：201002219381102224   整理番号：10A0264650

中央ブロックをスルホン化したトリブロック共重合体の合成

Synthesis of Midblock-Sulfonated Triblock Copolymers

著者 (3件)： SAITO Tomonori (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania) ,  MOORE Hunter D. (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania) ,  HICKNER Michael A. (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania)
資料名： Macromolecules  (Macromolecules)
巻： 43  号： 2  ページ： 599-601  発行年： 2010年01月26日 
JST資料番号： B0952A  ISSN： 0024-9297  CODEN： MAMOBX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 中央ブロックをスルホン化し,疎水性末端ブロックで強化したトリブロック共重合体,ポリ(メタクリル酸ヘキシル)-b-スルホン化ポリ(スチレン)-b-ポリ(メタクリル酸ヘキシル)(PHMA-b-sPS-b-PHMA)及びポリ(メタクリル酸ペルフルオロオクチル)-b-スルホン化ポリ(スチレン)-b-ポリ(メタクリル酸ペルフルオロオクチル)(PFMA-b-sPS-b-PFMA)を原子移動ラジカル重合とスルホン化により合成した。いずれの共重合体のキャストフィルムも相対湿度の増加とともにプロトン伝導度は増加し,他のプロトン交換膜と同じ傾向であった。SAXSはPFMA-b-sPS-b-PFMAよりPHMA-b-sPS-b-PHMAにおいてより規則的なモルフォロジーの形成を示した。

シソーラス用語： *トリブロック共重合体 ,  *スルホン化 ,  ポリスチレン ,  ポリスチレンスルホン酸 ,  ポリメタクリル酸エステル ,  フッ素化重合体 ,  *原子移動ラジカル重合 ,  分子量 ,  プロトン伝導 ,  小角X線散乱 ,  モルフォロジー

分類 (1件)： 高分子と低分子との反応  (CG03020L)

タイトルに関連する用語 (2件)： スルホン化 ,  トリブロック共重合体