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J-GLOBAL ID：201002220392271786   整理番号：10A0703865

OVDリアクタセットアップに対する電磁流体力学モデリング

Magnetohydrodynamic modeling for an OVD reactor setup

著者 (2件)： BAEVA M. (Leibniz Inst. fuer Plasmaforschung und Technol., Felix-Hausdorff-Strasse 2, D-17489 Greifswald, DEU) ,  UHRLANDT D. (Leibniz Inst. fuer Plasmaforschung und Technol., Felix-Hausdorff-Strasse 2, D-17489 Greifswald, DEU)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 204  号： 24  ページ： 4044-4050  発行年： 2010年09月15日 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 誘導結合プラズマ蒸着装置の3次元電磁流体力学モデルを開発,光ファイバー向けプレフォーム製造における外面蒸着プロセスを記述するために応用した。誘導コイルの電磁場およびプラズマからの放射損失を通して達成したエネルギー結合をもって連続定常状態,モーメント,エンタルピおよび拡散方程式を一貫して解く。局部的熱力学平衡,定常流と走流,および光学的に薄いプラズマを想定する。蒸着プロセスを記述するために,液体における化学種質量比のための境界条件として用いる化学的表面反応を設定した。モデルは液体のフローおよび温度分布,電磁場,および現実には複雑な形状をしたターゲット表面への蒸着速度に関する情報を提供する。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *蒸着 ,  *プラズマCVD ,  誘導結合プラズマ ,  プリフォーム ,  *蒸着装置 ,  モデリング ,  プラズマトーチ ,  温度分布 ,  電磁場 ,  堆積速度 ,  表面反応 ,  *電磁流体力学 ,  流体力学的模型 ,  光ファイバ
準シソーラス用語： *プラズマ蒸着 ,  *外面蒸着 ,  蒸着速度 ,  *OVD【蒸着】

分類 (2件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H)

タイトルに関連する用語 (4件)： リアクタ ,  セットアップ ,  電磁流体力学 ,  モデリング