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J-GLOBAL ID：201002220497375404   整理番号：10A0565115

可撓性のディスプレイ製作のためのナノパーティクル選択的レーザ処理

Nanoparticle Selective Laser Processing for a Flexible Display Fabrication

著者 (6件)： KO Seung Hwan (Korea Advanced Inst. Sci. and Technol.(KAIST), Daejeon, KOR) ,  KO Seung Hwan (Univ. California, CA, USA) ,  PAN Heng (Univ. California, CA, USA) ,  LEE Daeho (Univ. California, CA, USA) ,  GRIGOROPOULOS Costas P. (Univ. California, CA, USA) ,  PARK Hee K. (AppliFlex LLC, CA, USA)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 49  号： 5,Issue 2  ページ： 05EC03.1-05EC03.6  発行年： 2010年05月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 可撓性ディスプレイの新しい製作方法のための最初のステップを実証するため,従来の真空またはフォトリソグラフィープロセスを使うことなく,ポリマー基板上に有機発光ダイオード(OLED)ピクセル移動と有機電界効果トランジスタ(OFET)製作を実証するナノ材料をベースとするレーザ処理スキームを開発した。ナノ材料のユニークな特性がレーザが低レーザ・エネルギーでの有機発光材料の前方移動を誘導し,一方,プラスチックと両立できる低温で良い蛍光を維持し,そのうえ,高解像度トランジスタ電極パターン化を可能にした。これらの新しいプロセスは,ポリマー基板の安価,大面積,可撓性エレクトロニクスを実現させる低温製造工程と共に環境にやさしく費用効果がよいプロセスを可能にする。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *フレキシブル基板 ,  ナノ粒子 ,  レーザアニーリング ,  *固体ディスプレイ ,  発光ダイオード ,  フォトリソグラフィー ,  真空 ,  FET【トランジスタ】 ,  蛍光 ,  高分解能 ,  高分子 ,  基板

分類 (1件)： 表示機器  (NC06030Q)

引用文献 (20件)：

• U. Zschieschang, H. Klauk, M. Halik, G. Schmid, and C. Dehm: Adv. Mater.15(2003)1147.
• S. H. Ko, H. Pan, C. P. Grigoropoulos, C. K. Luscombe, J. M. J. Fréchet, and D. Poulikakos: Nanotechnology 18(2007)345202.
• P. A. Buffat and J. P. Borel: Phys. Rev. A 13(1976)2287.
• S. Ko, Y. Choi. D. J. Hwang, C. P. Grigoropoulos, and D. Poulikakos: Appl. Phys. Lett.89(2006)141126.
• H. Pan, S. H. Ko, and C. P. Grigoropoulos: Appl. Phys. A 90(2008)247.

タイトルに関連する用語 (5件)： 可撓性 ,  ディスプレイ ,  製作 ,  ナノパーティクル ,  レーザ