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J-GLOBAL ID：201002220644044559   整理番号：10A0813893

高スピン基底状態を持つ高反応性非ヘムFe(IV)=O錯体の理論予測

Theoretical predictions of a highly reactive non-heme Fe(IV)=O complex with a high-spin ground state

著者 (3件)： CHO Kyung-Bin (Ewha Womans Univ., Seoul, KOR) ,  SHAIK Sason (Hebrew Univ. Jerusalem, Jerusalem, ISR) ,  NAM Wonwoo (Ewha Womans Univ., Seoul, KOR)
資料名： Chemical Communications  (Chemical Communications)
巻： 46  号： 25  ページ： 4511-4513  発行年： 2010年07月07日 
JST資料番号： D0376B  ISSN： 1359-7345  CODEN： CHCOFS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： [(Me₆TREN)Fe^IV=O]²⁺(Me₆TREN=トリス(2-(ジメチルアミノ)-エチル)アミン)について,密度汎関数法により電子状態について調べ,[(Me₆TREN)Ru^IV=O]²⁺の場合と比較した。その結果FeO部位は保護されており,五重項の高スピン基底状態を持ち,S=2状態を介して,アセトニトリル溶液中でのシクロヘキサンからの水素引き抜き反応に対して,低い活性化エネルギー障壁を持ち,高い反応性を持つことがわかった。一方Ru錯体は三重項状態で,水素引き抜きエネルギー障壁が高かった。

シソーラス用語： *基底状態 ,  *高スピン状態 ,  *鉄錯体 ,  オキソ錯体 ,  鉄 ,  *密度汎関数法 ,  電子状態 ,  多重項 ,  *引抜反応 ,  活性化エネルギー ,  ルテニウム錯体 ,  反応性 ,  *ポテンシャル障壁 ,  シクロアルカン
準シソーラス用語： 五重項 ,  水素引抜反応 ,  反応障壁 ,  非ヘム鉄

分類 (2件)： 鉄の錯体  (CE01091H) ,  分子の電子構造  (BH05010Q)

物質索引 (2件)： シクロヘキサン ,  トリス[2-(ジメチルアミノ)エチル]アミン

タイトルに関連する用語 (7件)： 基底状態 ,  反応性 ,  ヘム ,  Fe ,  錯体 ,  理論 ,  予測