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J-GLOBAL ID：201002220752866379   整理番号：10A1539169

シリコンオンインシュレータ導波路への窒化ケイ素オーバーレイを基にした高効率グレーティングカプラーの設計

Design of a high-efficiency grating coupler based on a silicon nitride overlay for silicon-on-insulator waveguides

著者 (2件)： CHEN Huai-yi ,  YANG Kai-chun
資料名： Applied Optics  (Applied Optics)
巻： 49  号： 33  ページ： 6455  発行年： 2010年11月20日 
JST資料番号： B0026B  ISSN： 1559-128X  CODEN： APOPAI  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 窒化ケイ素オーバーレイを用いた波長1.55μmのTE偏光に対する導波路グレーティングを,実験的実証をせず設計した。ファイバーに対する結合効率は76%,1dB帯域幅は75nm,および結合角度は10°であった。種々のデバイスパラメーターがこのグレーティングカプラーの結合性能に及ぼす影響を検討した。ポリシリコンオーバーレイを用いたグレーティングカプラー設計と比べると,このグレーティングカプラーの結合効率はほぼ等しいが,1dBスペクトル帯域幅は約25nm広い。この結合デバイスの結合性能は,まださらに改善できるであろう。本稿で提示したグレーティングカプラーは,ナノフォトニック集積回路における光結合器に応用できる。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *光結合器 ,  回折格子 ,  SOI構造 ,  光導波路 ,  被覆層 ,  窒化ケイ素 ,  TEモード ,  効率 ,  帯域幅 ,  波長依存性 ,  数値計算 ,  近赤外線 ,  反射器 ,  固体素子
準シソーラス用語： DBR ,  結合効率 ,  素子設計

分類 (1件)： 光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H)

タイトルに関連する用語 (6件)： シリコンオンインシュレータ ,  導波路 ,  窒化ケイ素 ,  オーバーレイ ,  高効率 ,  設計