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J-GLOBAL ID：201002221081478758   整理番号：10A0863656

準周期パターン回折光学ルーラを用いたナノ計測方法

Nanometrology Using a Quasiperiodic Pattern Diffraction Optical Ruler

著者 (3件)： YOSHIMIZU Norimasa (Cornell Univ., NY, USA) ,  LAL Amit (Cornell Univ., NY, USA) ,  POLLOCK Clifford R. (Cornell Univ., NY, USA)
資料名： Journal of Microelectromechanical Systems  (Journal of Microelectromechanical Systems)
巻： 19  号： 4  ページ： 865-870  発行年： 2010年08月 
JST資料番号： W0357A  ISSN： 1057-7157  CODEN： JMIYET  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 29nmの位置決め精度をもつナノ光学ルーラ(定規)イメージングシステム(NORIS)を実現した。この位置決めは,経路に依存せず,半波長あいまい性がなく,ウエハスケール距離以上に拡張するとともに連続分解能計測法を可能にした。金属薄膜パターンによる10^-8安定化レーザの回折により,このルーラを作製した。微細加工により,ナノ計測応用に良く適した並進非対称形状高密光回折パターンを発生するため,膜内に高次数準周期開口アレイを創製した。イメージャアレイにより光学ルーラをサンプリングし,フーリエ変換交差相関法によりその位置を計算した。数値的に,画素数とサイズによるイメージャの改善により,位置決め誤差を画素サイズの1/120に低減した後,さらに改善しても,誤差は低減しなかった。その計測をアクチュエータから減結合することによる質量と経路無依存性の減小により,ウエハスケール測定とナノ加工用に正確な高速走査プローブ顕微鏡を可能にした。また,NORISにより,多数の独立走査プローブとナノ位置決めステージおよび回転と並進の同時計測を可能にした。イメージヤと開口アレイを改善することにより,そのシステム精度をさらに向上することが可能である。

シソーラス用語： *位置測定 ,  *ナノテクノロジー ,  *光回折 ,  *データ処理 ,  ウエハ【IC】 ,  走査型プローブ顕微鏡 ,  *位置決め ,  *測定精度 ,  画素 ,  Fourier変換 ,  相互相関関数 ,  MOS構造 ,  イメージセンサ ,  MEMS ,  スループット ,  物差し
準シソーラス用語： ナノ計測

分類 (1件)： 光学的測定とその装置一般  (BD07010S)

タイトルに関連する用語 (4件)： 周期 ,  回折光学 ,  ルーラ ,  計測方法