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J-GLOBAL ID：201002221188599809   整理番号：10A1051609

工業プロセス用pH電極の開発

著者 (4件)： 石井章夫 (堀場製作所) ,  松原裕樹 (堀場製作所) ,  西尾友志 (堀場製作所 開発セ) ,  江原克信 (堀場製作所)
資料名： EICA  (EICA)
巻： 15  号： 2/3  ページ： 45-46  発行年： 2010年10月15日 
JST資料番号： L0678B  ISSN： 1342-3983  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 鉛フリーガラスを用い,幅広い測定環境に適用可能な工業用pH電極を開発した。鉛フリーガラスを用いることにより加工性が悪くなり,特に耐久性の低下を引き起こす可能性があったが,定量的な加工条件の設定により市場要求を満たす耐久性を確保した。また,応答膜のガラス組成を制御することで,酸,アルカリ,油に対する耐久性を向上させた。さらに超音波洗浄器との組み合わせにより,凝集沈殿プロセスでの測定検証を行った。その結果,従来よりも長期間安定に測定できることが確認された。(著者抄録)

シソーラス用語： *pHセンサ ,  pH測定 ,  *ガラス電極 ,  *ガラス
準シソーラス用語： 凝集沈殿装置 ,  *無鉛ガラス

分類 (2件)： 下水,廃水の化学的処理  (SC03050W) ,  固体デバイス計測・試験・信頼性  (NC03040G)

引用文献 (2件)：

• 山里昌春. 再表2006-064935
• 西尾友志. 特開2009-288117

タイトルに関連する用語 (4件)： 工業 ,  プロセス ,  pH ,  開発