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J-GLOBAL ID：201002221233286809   整理番号：10A1178975

新規イオンプレーティング技術で蒸着した高品位透明伝導酸化膜

High-quality transparent conducting oxide films deposited by a novel ion plating technique

著者 (9件)： SAKEMI T ,  SHIRAKATA S ,  IWATA K ,  MATSUBARA K ,  TAMPO H ,  FONS P ,  NIKI S ,  AWAI K ,  YAMAMOTO T
資料名： COMPOUND SEMICONDUCTOR PHOTOVALTAICS
ページ： 301-306  発行年： 2003年 
JST資料番号： I20030283  ISSN： 0272-9172  ISBN： 1-55899-700-8  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： その他 (ZZZ)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (5件)： イオンプレーティング ,  蒸着 ,  高品位 ,  伝導 ,  酸化膜