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J-GLOBAL ID：201002221334957895   整理番号：10A0390118

APCVD法で成長させたTiO₂薄膜の構造,光学,電気化学的性質

Structural, optical and electrochemical properties of TiO₂ thin films grown by APCVD method

著者 (3件)： QUINONEZ C. (Departamento de Quimica, Universidad Nacional de Colombia, Cra. 30 No 45-03, Bogota, Colombia) ,  VALLEJO W. (Departamento de Quimica, Universidad Nacional de Colombia, Cra. 30 No 45-03, Bogota, Colombia) ,  GORDILLO G. (Departamento de Fisica, Universidad Nacional de Colombia, Cra. 30 No 45-03, Bogota, Colombia)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 256  号： 13  ページ： 4065-4071  発行年： 2010年04月15日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： TiCl₄と酢酸エチル(EtOAc)との反応により,ガラス基板及びITO被覆ガラス基板上へのTiO₂薄膜の大気圧化学気相成長(APCVD)を達成した。合成温度が光学特性,構造,電気化学特性に及ぼす影響を分光学的透過,X線回折(XRD),電気化学インピーダンス分光(EIS)測定によって調べた。400°C以上の温度でガラス基板上に成膜したTiO₂薄膜は正方晶構造のルチル型であったが,ITO被覆ガラス基板上に成膜したTiO₂薄膜はアナターゼ型構造であった。EISは,色素増感太陽電池で典型的に見いだされている電解質/TiO₂界面における電荷移動抵抗を決定する適切な方法であるので用いた。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *化学蒸着 ,  *酸化チタン ,  アナターゼ ,  ルチル ,  基板温度 ,  X線回折 ,  電気化学インピーダンス ,  表面構造 ,  *半導体薄膜 ,  光透過 ,  酸化インジウムスズ ,  塩化チタン ,  脂肪酸 ,  カルボン酸エステル
準シソーラス用語： APCVD ,  ITO ,  二酸化チタン

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

物質索引 (1件)： 酢酸エチル

タイトルに関連する用語 (6件)： APCVD ,  成長 ,  TiO2 ,  薄膜 ,  光学 ,  電気化学的性質