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J-GLOBAL ID：201002221499971485   整理番号：10A1321218

信頼性改善用2重ビア挿入により向上したX構造クロック配線

Double-Via Insertion Enhanced X-Architecture Clock Routing for Reliability

著者 (4件)： TSAI Chia-Chun (Nanhua Univ.) ,  KUO Chung-Chieh (National Taipei Univ. Technol.) ,  GU Lin-Jeng (National Taipei Univ. Technol.) ,  LEE Trong-Yen (National Taipei Univ. Technol.)
資料名： IEEE International Symposium on Circuits and Systems  (IEEE International Symposium on Circuits and Systems)
巻： 2010 Vol.5  ページ： 3413-3416  発行年： 2010年 
JST資料番号： A0757A  ISSN： 0271-4302  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： VLSI製造技術の65nm以下への縮小とともに,ビア不良により生じる歩留低下が,製造設計における重大問題の一つである。一般的配線の歩留と信頼性を向上するために,2重ビア挿入(DVI)方法が幅広く使用されている。最初に,X構造クロック配線のビア歩留について考察し,2重ビアを挿入するためのDVI-X方法を提案した。このX構造では,水平と垂直配線を金属1と2により配置し,対角配線(±45°)を各々金属3と4により配置した。DVI-X方法は,単一ビアと冗長ビアを有する分割クロック配線の2分グラフを構成した。次に,DVI問題の解決のため,この2分グラフから一組の最大クリークを得た。ベンチマークに関する実験結果から,DVI-Xは,以前の結果と比較して,他の結果より2.925%高い高挿入率と低ビアタイミング影響を得ることができることを示した。バッファーにより,ビア数が大幅に増し,遅延の低減とクロックツリーへのアンテナ効果の回避のため,ジャンパーを挿入した。これにより,バッファーとジャンパーに基づくクロック配線に提案した方法を拡張することができた。

シソーラス用語： *超LSI ,  *信頼性 ,  可能性 ,  *バイアホール ,  *経路選定 ,  *歩留り ,  ベンチマーク ,  レイアウト ,  配線 ,  二分決定グラフ ,  表面欠陥 ,  配線設計 ,  配置設計 ,  *通信操作
準シソーラス用語： 製造容易性

分類 (1件)： 集積回路一般  (NC03161C)

タイトルに関連する用語 (1件)： クロック