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J-GLOBAL ID：201002222244214458   整理番号：10A0127327

ポーラスシリコンフォトニック結晶の熱遮断の研究

Study on the thermal isolation properties of porous silicon photonic crystal

著者 (2件)： XU S. H. (East China Normal Univ., Shanghai, CHN) ,  WANG L. W. (East China Normal Univ., Shanghai, CHN)
資料名： Applied Physics. A. Materials Science & Processing  (Applied Physics. A. Materials Science & Processing)
巻： 98  号： 1  ページ： 67-73  発行年： 2010年01月 
JST資料番号： D0256C  ISSN： 0947-8396  CODEN： APHYCC  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 熱遮断基板として用いる周期的交互構成のフォトニック結晶構造を設計し,その特性を理論的に議論した。フォトニック結晶構造の赤外領域における高い反射率のために,全放射熱流束は通常の高多孔性ポーラスシリコン層のほぼ半部であった。適切な構造設計及びポーラスシリコン層と吸収層間へのバッファ層の堆積によって,非常に高い多孔性のシリコン基板よりも優れた熱遮断特性の基板がポーラスシリコン層とフォトニック結晶構造で得られることを明らかにした。この結果,適切な設計のポーラスシリコンフォトニック結晶構造が優れた熱遮断基板となり,温度あるいは赤外検出器に用いられることが明らかになった。

シソーラス用語： *断熱 ,  *多孔質シリコン ,  周期構造 ,  熱流束 ,  赤外検出器 ,  ジルコニウム酸チタン酸鉛 ,  屈折率 ,  赤外スペクトル ,  温度センサ ,  光反射 ,  *電解エッチング ,  *半導体薄膜 ,  バッファ層 ,  *熱伝導率 ,  *フォトニック結晶
準シソーラス用語： PZT【鉛化合物】 ,  温度検出器

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  比熱・熱伝導一般  (BL05021E)

タイトルに関連する用語 (4件)： ポーラスシリコン ,  フォトニック結晶 ,  熱遮断 ,  研究