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J-GLOBAL ID：201002222361983632   整理番号：10A0834750

コールドスプレーの概要と最新動向

著者 (1件)： 榊和彦 (信州大 工)
資料名： 溶射  (日本溶射学会誌)
巻： 47  号： 3  ページ： 113-119  発行年： 2010年07月31日 
JST資料番号： S0589A  ISSN： 0916-6076  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： コールドスプレー(CS)は厚膜創製プロセスとして各種産業分野で重要な基盤技術である溶射技術の一つで,粒子を溶かさず,運動エネルギーを主に利用して成膜するものである。ロシアでのCS現象の発見,開発から約20年が経過し,近年特に注目を浴びている。このCSプロセスは,作製した皮膜が酸化・熱変質がほとんどないことを最大の特徴としている。本報告では,このCS技術の発展の歴史や溶射技術の中での位置づけ,CS技術の原理,特徴から最近の動向まで例をあげて概説した。

シソーラス用語： *コールドスプレー ,  技術史 ,  原理 ,  粒子 ,  加熱 ,  厚膜 ,  材料 ,  金属 ,  サーメット ,  セラミック ,  複合材料 ,  被覆層
準シソーラス用語： 研究動向 ,  成膜

分類 (2件)： めっき一般  (WC08021T) ,  ガラス・セラミック被覆一般  (YC02010D)

引用文献 (42件)：

• ALKIMOV, A. P. Gas Dynamic Spraying Method for Applying a Coating. US Pat. No. 5302414. 1994
• ALKIMOV, A. P. Method and Device for Coating. European Patent 0484533 B1. 1995
• DAVIS, J. R. Handbook of Thermal Spray Technology. 2004, 3
• 日本溶射協会編. 溶射便覧. 2010, 39
• 蓮井淳. 溶射工学. 1996, 138

タイトルに関連する用語 (3件)： コール ,  概要 ,  最新動向