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J-GLOBAL ID:201002223339825728   整理番号:10A0965132

薄膜のABブロック共重合体/Cホモポリマーの水素結合高分子間錯体の溶媒アニーリング支援自己集合

Solvent annealing assisted self-assembly of hydrogen-bonded interpolymer complexes of AB block copolymer/C homopolymer in thin film
著者 (4件):
資料名:
巻: 51  号: 21  ページ: 4836-4842  発行年: 2010年10月01日 
JST資料番号: D0472B  ISSN: 0032-3861  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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溶媒アニーリングの単純なプロセスで,薄膜のポリスチレン-b-ポリ(4-ビニルピリジン)(PS-b-P4VP)/ポリ(4,4′-オキシジフェニレンピロメリットアミック酸)(POAA)ブロック共重合体/ホモポリマブレンド物の秩序化自己集合構造(POAA鎖が強い高分子間水素結合によってP4VPブロックと選択的に相互作用している)が生成することが示された。単に薄膜をベンゼン/NMP(0.97/0.03(体積))蒸気混合物にさらすことによって,P4VP/POAA錯体マトリックス中にPS球状ミクロドメインが分布した秩序化ミクロ相分離構造が得られた。ミクロ相分離構造の形成は,ベンゼン/NMP混合蒸気下でのPSブロックとP4VP/POAA錯体の相当な移動性とそれらの間の強化された反発に帰することができる。ベンゼンのNMPに対する体積比が0.98/0.02まで増加したとき,混合蒸気中のベンゼン増加により球状ミクロ相分離構造の接着性衝突が誘発され,長い「真珠ネックレス」が形成された。NMPに対するベンゼンの体積比を0.99/0.01まで増やすことで,フィルム面に対して平行配向した秩序化「真珠ネックレス」配列ができた。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (1件):
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高分子固体の構造と形態学 

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