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J-GLOBAL ID：201002223624605871   整理番号：10A0124299

性能とスループットに優れた薄膜カプセル化に適した機械的安定性の高い均質なAl₂O₃多層膜構造

Homogeneous Al₂O₃ multilayer structures with reinforced mechanical stability for high-performance and high-throughput thin-film encapsulation

著者 (8件)： CHOI Yun-hyuk (Display Lab., Samsung Advanced Inst. of Technol. (SAIT), Yongin, Gyeonggi 446-712, KOR) ,  LEE Young Gu (Display Lab., Samsung Advanced Inst. of Technol. (SAIT), Yongin, Gyeonggi 446-712, KOR) ,  BULLIARD Xavier (Display Lab., Samsung Advanced Inst. of Technol. (SAIT), Yongin, Gyeonggi 446-712, KOR) ,  LEE Kwang-hee (Display Lab., Samsung Advanced Inst. of Technol. (SAIT), Yongin, Gyeonggi 446-712, KOR) ,  LEE Sangyoon (Display Lab., Samsung Advanced Inst. of Technol. (SAIT), Yongin, Gyeonggi 446-712, KOR) ,  CHOI Dukhyun (Display Lab., Samsung Advanced Inst. of Technol. (SAIT), Yongin, Gyeonggi 446-712, KOR) ,  PARK Jong-jin (Frontier Res. Lab., Samsung Advanced Inst. of Technol. (SAIT), Yongin, Gyeonggi 446-712, KOR) ,  KIM Jong Min (Frontier Res. Lab., Samsung Advanced Inst. of Technol. (SAIT), Yongin, Gyeonggi 446-712, KOR)
資料名： Scripta Materialia  (Scripta Materialia)
巻： 62  号： 7  ページ： 447-450  発行年： 2010年04月 
JST資料番号： B0915A  ISSN： 1359-6462  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 反応と非反応のスパッタリングで均質なアルミナ多層遮蔽膜を作製した。均質な多層膜は単層膜よりも優れた機械的安定性を持つようである。多層膜の遮蔽性能は50%改良され,その製造時間は同じ厚さの単層のアルミナに較べて40%短かくなった。反応と非反応のスパッタリングを施したアルミナ二層アルミナを3組積層した場合には水蒸気透過速度は10^-4gm^-2/日のオーダまで増加した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *均一性 ,  *アルミナ ,  *多層膜 ,  薄膜 ,  カプセル ,  水蒸気 ,  表面性状 ,  積層構造 ,  内部応力 ,  膜厚 ,  スパッタ蒸着 ,  スループット ,  効果 ,  *セラミック膜 ,  透気性 ,  蒸着膜 ,  安定性
準シソーラス用語： 遮蔽効果

分類 (1件)： セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (6件)： スループット ,  薄膜 ,  カプセル化 ,  機械的安定性 ,  Al2O3 ,  多層膜