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J-GLOBAL ID：201002223983015354   整理番号：10A0093901

イオン照射Py/Ta試料の飽和磁化の極磁気光学Kerr効果と強磁性共鳴による決定

Determination of the saturation magnetization of ion irradiated Py/Ta samples using polar magneto-optical Kerr effect and ferromagnetic resonance

著者 (5件)： MARKO D. (Inst. of Ion Beam Physics and Materials Res., Forschungszentrum Dresden-Rossendorf e.V., P.O. Box 51 01 19, 01314 ...) ,  STRACHE T. (Inst. of Ion Beam Physics and Materials Res., Forschungszentrum Dresden-Rossendorf e.V., P.O. Box 51 01 19, 01314 ...) ,  LENZ K. (Inst. of Ion Beam Physics and Materials Res., Forschungszentrum Dresden-Rossendorf e.V., P.O. Box 51 01 19, 01314 ...) ,  FASSBENDER J. (Inst. of Ion Beam Physics and Materials Res., Forschungszentrum Dresden-Rossendorf e.V., P.O. Box 51 01 19, 01314 ...) ,  KALTOFEN R. (IFW Dresden, Inst. fuer Integrative Nanowissenschaften, Helmholtzstr. 20, 01069 Dresden, DEU)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 96  号： 2  ページ： 022503  発行年： 2010年01月11日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 磁気光学極Kerr効果と周波数依存強磁性共鳴測定に基づいて,有効磁気体積が未知な試料の飽和磁化を定量的に決定し得る方法を見出した。従来の磁気測定はこのためには使用できなかった。全厚20nmで異なる界面数を持つPy(パーマロイ)/Ta多層膜を検査システムとして使用した。Neイオン照射による界面混合によって,磁気モーメントと飽和磁化は影響を受けた。イオン照射密度の増加およびPy/Ta界面数の増加と共に,飽和磁化の減少を観測した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 強磁性体 ,  強磁性共鳴 ,  *磁化 ,  ニッケル合金 ,  鉄含有合金 ,  *パーマロイ ,  磁性薄膜 ,  多層膜 ,  タンタル ,  安定性 ,  イオン照射 ,  効果 ,  イオンビーム ,  ネオン ,  マグネトロンスパッタリング ,  界面 ,  Kerr効果 ,  磁気光学効果 ,  磁気モーメント ,  スピントロニクス
準シソーラス用語： 化学安定性 ,  共鳴周波数

分類 (1件)： 金属結晶の磁性  (BM06040T)

タイトルに関連する用語 (8件)： イオン照射 ,  py ,  Ta ,  試料 ,  飽和磁化 ,  極 ,  磁気光学Kerr効果 ,  強磁性共鳴