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J-GLOBAL ID：201002224491043715   整理番号：10A0107700

アルミニウムアノード酸化皮膜の構造と成長機構および真空中でのガス放出特性

Structure and Growth Mechanism of Anodic Oxide Films Formed on Aluminum and Their Gas Emission Property in Vacuum

著者 (1件)： 小野幸子 (工学院大学工学部応用化学科)
資料名： Journal of the Vacuum Society of Japan  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
巻： 52  号： 12  ページ： 637-644 (J-STAGE)  発行年： 2009年 
JST資料番号： G0194A  ISSN： 1882-2398  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 半導体製品の部品加工や化学蒸着用のアルミニウム製真空チャンバーの表面処理の発展のためのヒントとなる,ポーラス型およびバリヤー型の皮膜成長の基礎メカニズムとバリヤー型皮膜を用いたガス放出特性の制御について解説した。最初に,アルミニウムの真空装置への応用に際して用いられるポーラス型およびバリヤー型皮膜の成長機構と皮膜特性について述べた。次に種々の電解条件でアルミニウムおよびアルミニウム合金上に生成したバリヤー型アノード酸化皮膜の真空中での昇温脱離試験によるガス放出特性を測定した結果と,ガス放出を抑制する皮膜生成条件と構造,およびその抑制のメカニズムについて解説した。アノード酸化の技術は長い歴史を持ち,実用され発展してきたが,電解質や電解条件,素地純度による違いなどに基づいて様々に変化する多様性を持っており,今後も研究開発の努力によって今まで知られていない材料表面の新しい機能の発現や付与が期待される。

シソーラス用語： *アルミニウム ,  *アノード酸化 ,  *酸化膜 ,  *真空容器 ,  表面処理 ,  多孔性 ,  *ガスバリヤ性 ,  障害物 ,  アルミニウム合金 ,  昇温脱離 ,  *ガス放出 ,  *膜構造
準シソーラス用語： バリア ,  成長機構

分類 (2件)： 電気化学反応  (CB07050F) ,  真空技術  (BA02020L)

引用文献 (25件)：

• 1) K. Kujirai and S. Ueki: Japan Patent, 61920 (1923). [in Japanese]
• 2) G. D. Bengough and J. M. Stuart: British Patent, 223994 (1923).
• 3) N. Kanzaki: J. Surf. Finish. Soc. Jpn., 48 (1997) 976. [in Japanese]
• 4) S. Ono and N. Baba: Keikinzoku, 40 (1990) 729. [in Japanese]
• 5) S. Ono and N. Masuko: Zairyo to Kankyo, 41 (1992) 488. [in Japanese]

タイトルに関連する用語 (5件)： アルミニウム ,  アノード酸化皮膜 ,  成長 ,  真空 ,  ガス放出