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J-GLOBAL ID：201002224780724054   整理番号：10A0053924

薄膜中の混和性金属間の相互拡散係数のEPMA-EDS表面測定

EPMA-EDS surface measurements of interdiffusion coefficients between miscible metals in thin films

著者 (6件)： CHRISTIEN F. (Lab. Genie des Materiaux et Procedes Associes, Univ. de Nantes, Polytech’Nantes, Rue Christian Pauc, BP 50609 ...) ,  PIERSON J.f. (Lab. de Sci. et Genie des Surfaces (UMR CNRS 7570), Ecole des Mines, Parc de Saurupt F-54042 NANCY Cedex France) ,  HASSINI A. (Lab. Genie des Materiaux et Procedes Associes, Univ. de Nantes, Polytech’Nantes, Rue Christian Pauc, BP 50609 ...) ,  CAPON F. (Lab. de Sci. et Genie des Surfaces (UMR CNRS 7570), Ecole des Mines, Parc de Saurupt F-54042 NANCY Cedex France) ,  LE GALL R. (Lab. Genie des Materiaux et Procedes Associes, Univ. de Nantes, Polytech’Nantes, Rue Christian Pauc, BP 50609 ...) ,  BROUSSE T. (Lab. Genie des Materiaux et Procedes Associes, Univ. de Nantes, Polytech’Nantes, Rue Christian Pauc, BP 50609 ...)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 256  号： 6  ページ： 1855-1860  発行年： 2010年01月01日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 混和性金属間の相互拡散を測定するために新技術を開発した。この技術をNi-Pd系に適用した。この技術は,800nm厚のNi薄膜で覆われたPd基板を与えられた温度でアニールしながら見かけの表面組成変化を測定することから成る。測定はSEM(走査電子顕微鏡)のチェンバ内のその場でEPMA-EDS(電子プローブミクロ分析エネルギー分散X線分光法)により行われた。実験データは,Fickの拡散方程式と電子プローブマイクロ分析方程式を混合したモデルを用いて処理した。この処理は与えられたアニール温度における相互拡散係数の決定を可能にした。この技術の主な利点は,薄膜中と非常に低い温度(400°C,つまり~0.4T_m)での相互拡散係数決定ができることで,これは相互拡散研究に在来用いられてきた他の技術では達成不可能であった。Ni-Pd平均相互拡散係数430°Cと900°Cの間でArrhenius法則(D_c=6.32×10^-3exp(178.8kjmol^-1/RT)cm²s^-1)に従い,もっと高温でなされた従前のNi-Pd系についての相互拡散測定と良く一致することが示された。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ニッケル ,  金属薄膜 ,  *パラジウム ,  基板 ,  *相互拡散 ,  拡散係数 ,  *電子プローブX線分析 ,  *エネルギー分散X線分光分析 ,  相溶性 ,  焼なまし ,  走査電子顕微鏡 ,  電子顕微鏡観察 ,  Fickの法則 ,  Arrheniusの式

分類 (1件)： 金属中の拡散  (BL06022C)

タイトルに関連する用語 (5件)： 薄膜 ,  混和性 ,  拡散係数 ,  EPMA ,  EDS