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J-GLOBAL ID：201002226501326039   整理番号：10A0358646

粉末X線回折による微細孔構造を持つSi-原子柱状ラメラシリケートの構造解析

Structure Analysis of Si-Atom Pillared Lamellar Silicates Having Micropore Structure by Powder X-ray Diffraction

著者 (4件)： IKEDA Takuji (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Sendai, JPN) ,  KAYAMORI Syunsuke (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Sendai, JPN) ,  OUMI Yasunori (Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN) ,  MIZUKAMI Fujio (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Sendai, JPN)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 114  号： 8  ページ： 3466-3476  発行年： 2010年03月04日 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 層状シリケートPLS-1,PLS-3,PLS-4,およびPREFERから熱酸(HCl)処理によって転換された4種類のSi-原子柱状ラメラシリケートAPZ-1,APZ-2,APZ-3,APZ-4の結晶構造を解析し,親水性特性のメカニズムを解明した。得られた結果から,この新規微細孔構造が,(1)熱酸処理によりSi断片がシリカ層の構造的な崩壊から生じる;(2)Si断片がわずかな効率でマイグレーションし層間空間へ分散する;(3)最後に,隣接したシリカ層がSi断片を用いた層間シリル化によって架橋するプロセスによって形成されることを示した。得られたAPZは,Q²ピラーの不足のために微細構造が不完全に形成されたが,高い基体吸着特性および狭い細孔サイズ分布を示した。またAPZは,微細孔中の多数のヒドロキシル基の存在によって,高い親水性を有した。

シソーラス用語： *ラメラ ,  *構造 ,  *ケイ酸塩 ,  *X線回折 ,  *細孔構造 ,  結晶構造 ,  親水性 ,  シリル化 ,  吸着 ,  細孔径分布 ,  水和物 ,  走査電子顕微鏡 ,  ケイ素29NMR ,  吸着平衡 ,  ヒドロキシ基
準シソーラス用語： ヒドロキシル基 ,  FE-SEM ,  *柱状構造 ,  *粉末X線回折

分類 (1件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

タイトルに関連する用語 (5件)： 粉末X線回折 ,  微細孔 ,  Si ,  原子 ,  構造解析