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J-GLOBAL ID：201002226673862617   整理番号：10A0420571

かさ高い置換基を有する有機テルルハロゲン化物の合成・構造・反応

著者 (3件)： 菅又功 (京大 化研) ,  笹森貴裕 (京大 化研) ,  時任宣博 (京大 化研)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 90th  号： 4  ページ： 1424  発行年： 2010年03月12日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 有機テルルハロゲン化物は非常に反応活性であり,安定な化合物として単離された例はごくわずかである。今回我々は,立体保護基としてTbt,Bbt基を有する安定な有機テルルハロゲン化物の合成・単離を行った。また,合成したArTeX及びArTeX₃の反応性についても併せて報告する。(著者抄録)

シソーラス用語： *有機テルル化合物 ,  シラン誘導体 ,  有機ケイ素化合物 ,  *置換基効果 ,  *不均化

分類 (1件)： 芳香族単環セレン・テルル化合物  (CF05150M)

物質索引 (7件)： クロロ[2,6-ビス[ビス(トリメチルシリル)メチル]-4-[トリス(トリメチルシリル)メチル]フェニル]テルル ,  トリクロロ[2,6-ビス[ビス(トリメチルシリル)メチル]-4-[トリス(トリメチルシリル)メチル]フェニル]テルル(IV) ,  トリブロモ[2,6-ビス[ビス(トリメチルシリル)メチル]-4-[トリス(トリメチルシリル)メチル]フェニル]テルル(IV) ,  ビス[2,6-ビス[ビス(トリメチルシリル)メチル]-4-[トリス(トリメチルシリル)メチル]フェニル]ペルテルリド ,  ヒドロキシ[2,6-ビス[ビス(トリメチルシリル)メチル]-4-[トリス(トリメチルシリル)メチル]フェニル]テルル(IV)オキシド ,  ブロモ[2,6-ビス[ビス(トリメチルシリル)メチル]-4-[トリス(トリメチルシリル)メチル]フェニル]テルル ,  ヨード[2,6-ビス[ビス(トリメチルシリル)メチル]-4-[トリス(トリメチルシリル)メチル]フェニル]テルル

タイトルに関連する用語 (4件)： かさ ,  置換基 ,  テルル ,  ハロゲン化物