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J-GLOBAL ID：201002226977150656   整理番号：10A0127889

パルスレーザ蒸着したBCN薄膜の構造と光学的性質に及ぼす窒素圧の効果

Effect of nitrogen pressure on structure and optical properties of pulsed laser deposited BCN thin films

著者 (6件)： YANG Q. (State Key Lab. of Advanced Technol. for Material Synthesis and Processing, Wuhan Univ. of Technol., Wuhan, 430070, CHN) ,  WANG C.b. (State Key Lab. of Advanced Technol. for Material Synthesis and Processing, Wuhan Univ. of Technol., Wuhan, 430070, CHN) ,  ZHANG S. (State Key Lab. of Advanced Technol. for Material Synthesis and Processing, Wuhan Univ. of Technol., Wuhan, 430070, CHN) ,  ZHANG D.m. (State Key Lab. of Advanced Technol. for Material Synthesis and Processing, Wuhan Univ. of Technol., Wuhan, 430070, CHN) ,  SHEN Q. (State Key Lab. of Advanced Technol. for Material Synthesis and Processing, Wuhan Univ. of Technol., Wuhan, 430070, CHN) ,  ZHANG L.m. (State Key Lab. of Advanced Technol. for Material Synthesis and Processing, Wuhan Univ. of Technol., Wuhan, 430070, CHN)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 204  号： 11  ページ： 1863-1867  発行年： 2010年02月25日 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 窒素雰囲気の炭化ホウ素(B₄C)ターゲットのレーザアブレーションで,非晶質窒化ホウ素炭素(BCN)の薄膜をSi(100)と石英基材に析出した。膜の析出速度,組成,構造,および光学的性質への,窒素圧(pN₂)の効果を調査した。膜の析出速度は表面プロファイラーで測定した。析出速度は,高いpN₂では3.4から6.25nm/分まで増加した。膜の構造と組成はX線光電子分光(XPS)とフーリエ変換赤外線分光(FTIR)で調査した。FTIRとXPS分析によると,析出したBCN膜はB-C,N-C,およびB-Nの化学結合を含んでおり,三成分系のBCN化合物の形成を示唆していた。窒素圧の増加で,膜の窒素含有量は漸増し,その後,10PaのpN₂で,~26at%で飽和状態になった。光学バンドギャップ(Eg)は,pN₂の2から15Paへの増加に伴い,3.78から3.92eVまで増加した。Egの変化は,膜の組成と結合状態の変化に従った。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ホウ素化合物 ,  *炭化物 ,  *窒化物 ,  *蒸着膜 ,  *レーザ蒸着 ,  パルスレーザ照射 ,  圧力効果 ,  窒素 ,  相組成 ,  光学ギャップ ,  光透過 ,  透過率 ,  結合エネルギー ,  ウエハ【IC】 ,  ケイ素 ,  石英 ,  *パルスレーザ蒸着
準シソーラス用語： ケイ素基板 ,  *炭窒化ホウ素

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (5件)： パルスレーザ蒸着 ,  薄膜 ,  光学的性質 ,  窒素 ,  圧