文献

J-GLOBAL ID：201002228337393326   整理番号：10A0222654

エチレン架橋有機シランからの結晶性シリカ壁をもつ自立メソ細孔性シリカ/カーボン複合膜

Free-Standing Mesoporous Silica/Carbon Composite Films with Crystalline Silica Wall from Ethylene-Bridged Organosilane

著者 (6件)： PARK Sung Soo (Pusan National Univ., Busan, KOR) ,  JUNG Yuin (Pusan National Univ., Busan, KOR) ,  XUE Chunfeng (Fudan Univ., Shanghai, CHN) ,  CHE Renchao (Fudan Univ., Shanghai, CHN) ,  ZHAO Dongyuan (Fudan Univ., Shanghai, CHN) ,  HA Chang-Sik (Pusan National Univ., Busan, KOR)
資料名： Chemistry of Materials  (Chemistry of Materials)
巻： 22  号： 1  ページ： 18-26  発行年： 2010年01月12日 
JST資料番号： T0893A  ISSN： 0897-4756  CODEN： CMATEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： オクタデシルトリメチルアンモニウムブロミドおよび1,2-ビス(トリエトキシシリル)エタンの水熱合成法によりメソ細孔性有機シリカ膜(A)を製造した。Aは自立性のフィルムであり,アルゴン中焼成によりメソ細孔性シリカ/カーボン複合膜(PMOX)を生成した。X線回折,細孔径分布,エネルギー分散X線分光分析,走査電子顕微鏡,高分解能電子顕微鏡,²⁹Si-¹³C CP-MASNMRによりキャラクタリゼーションを行った。表面に平行な六角形チャネルを含む規則的構造をもち,700°C焼成試料の細孔壁はクリストバライト構造をもつ。400~900°C焼成により細孔径分布を調節した。

シソーラス用語： *多孔質体 ,  *炭素 ,  *ナノ複合材料 ,  薄膜 ,  水熱合成 ,  焼成 ,  X線回折 ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  走査電子顕微鏡 ,  高分解能電子顕微鏡 ,  ケイ素29NMR ,  炭素13NMR ,  CP-MASNMR ,  クリストバライト ,  細孔径分布 ,  表面構造 ,  気固界面 ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ ,  *カーボン ,  *メソ細孔性シリカ

分類 (3件)： 無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  固体の表面構造一般  (BK15010E)

物質索引 (2件)： 1,2-ビス(トリエトキシシリル)エタン ,  オクタデシルトリメチルアンモニウムブロミド

タイトルに関連する用語 (8件)： エチレン ,  架橋 ,  有機シラン ,  結晶性シリカ ,  自立 ,  メソ細孔性シリカ ,  カーボン ,  複合膜