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J-GLOBAL ID：201002228488815664   整理番号：10A1424237

hp 45ナノメートル以下のULSIのための大粒低抵抗cu導線の革新的な処理の開発

The development of an innovative process of large grained and low resistivity cu wires for less than hp 45nm ULSI

著者 (10件)： TASHIRO S ,  KHOO K ,  NAGANO T ,  ONUKI R ,  CHONAN Y ,  AKAHOSHI H ,  TOBITA T ,  CHIBA M ,  ISHIKAWA K ,  ISHIKAWA N
資料名： PROCEEDINGS OF THE IEEE 2007 INTERNATIONAL INTERCONNECT TECHNOLOGY CONFERENCE
ページ： 46-48  発行年： 2007年 
JST資料番号： I20071054  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： その他 (ZZZ)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (7件)： HP ,  メートル ,  ULSI ,  低抵抗 ,  Cu ,  導線 ,  開発