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J-GLOBAL ID：201002231797843754   整理番号：10A0063380

形状異方性を考慮した単純化磁区構造モデルによる磁化過程表現に関する検討

A Study of Magnetization Process Representation Using Simplified Domain-Structure Model Taking account Shape Anisotropy

著者 (1件)： 松尾哲司 (京大)
資料名： 電気学会マグネティックス研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： MAG-09  号： 211-221.223  ページ： 15-20  発行年： 2009年12月17日 
JST資料番号： Z0924A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 形状異方性を直接考慮した単純化磁区構造モデルの検討について述べた。磁芯材料はヒステリシス特性など複雑な磁化過程を示すが,それは磁性体内のミクロな磁区構造と密接に関係している。ミクロな磁区の振舞いの影響を記述する方法として,マイクロ磁気学シミュレーションがよく用いられるが,計算コストの制約から解析できる領域は大きくない。そこで,ミクロとマクロの間の中間的なモデルとして磁区構造モデルが検討されている。しかし,磁気エネルギーの計算やエネルギー極小化の手法は必ずしも単純ではないので,単純化磁区構造モデルを構成して基本的な磁性体の振舞いを明らかにした。そのモデルについて磁区構造モデルとその単純化,極小解の算出法,として述べた。次に,磁化特性解析について,1)交番磁界に対する磁化特性,2)薄膜磁性デバイスの磁化特性解析,として述べた。交番磁化特性解析の結果,等方性の場合と同様,単磁区型の解,180°磁壁移動の解,磁化回転の解が得られた。

シソーラス用語： 磁気異方性 ,  *磁区構造 ,  モデル ,  磁化特性 ,  形状効果
準シソーラス用語： *形状磁気異方性 ,  *構造モデル ,  *磁化過程

分類 (1件)： 磁区・磁化過程一般  (BM06111M)

引用文献 (15件)：

• 川西健次, 近角聴信, 櫻井良文編 「磁気工学ハンドブック」, pp. 205-217, 朝倉書店 (1998)
• H Kronmuller and M Fahnle“Micromagnetism and the Microstructure of Ferromagnetic Solids,” Cambridge University Press (2003).
• N. Smith: “Domain theory model for magnetic thin films,” IEEE Trans Magn., vol.24, no.6, pp. 2380-2382,(1988-11).
• C. Saka, K Shiiki and K. Shinagawa: “Analysis of domain structure by calculating magnetostatic energy for magnetic thin film,” J. Appl Phys., vol.66, no.3, pp. 1285-1290(1989-8).
• M. Enokizono, T. Todaka and Y. Midou: “Numerical simulation of domain Structure in magnetic thin sheet,” IEEE Trans. Magn., vol.32, no.3, pp. 1172-1175(1996-5).

タイトルに関連する用語 (6件)： 形状異方性 ,  単純化 ,  磁区構造 ,  モデル ,  磁化過程 ,  表現