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J-GLOBAL ID：201002232818968125   整理番号：10A0988520

ナノパターン化したブロック共重合体

Block Copolymer at Nano-Patterned Surfaces

著者 (3件)： MAN Xingkun (Tel Aviv Univ., Tel Aviv, ISR) ,  ANDELMAN David (Tel Aviv Univ., Tel Aviv, ISR) ,  ORLAND Henri (CEA-Saclay, Gif-sur-Yvette, FRA)
資料名： Macromolecules  (Macromolecules)
巻： 43  号： 17  ページ： 7261-7268  発行年： 2010年09月14日 
JST資料番号： B0952A  ISSN： 0024-9297  CODEN： MAMOBX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノパターン表面加工したブロック共重合体の表面のラメラ相の数値計算を行った。ラメラ相を形成する対称ジブロック共重合体(BCP)をモデルにして,位置合せ及び配向したラメラ相に与える幾何学的及び化学表面パターン化の影響を調べた。計算は自己無撞着場法(SCFT)で行い,セミ潜在緩和スキームを用いて拡散式を解いた。硬い溝加工鋳型に押付けられた時の膜構造及び配向を調べ,この時に完全な垂直ラメラ配向が出来ることが分かった。更に,これらの現象の発現メカニズムについて議論した。

シソーラス用語： *SCF法 ,  *パターン形成 ,  ナノテクノロジー ,  ナノ構造 ,  *ジブロック共重合体 ,  表面加工 ,  *数値計算 ,  ラメラ ,  配向 ,  リソグラフィー ,  押付成形 ,  計算機シミュレーション ,  膜構造 ,  高分子加工 ,  ナノメータ加工 ,  高分子膜 ,  表面構造 ,  数学モデル ,  解析モデル
準シソーラス用語： ナノインプリントリソグラフィー ,  自己無撞着場法

分類 (3件)： X線技術  (BA02060D) ,  プリント回路  (NA05040O) ,  高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

タイトルに関連する用語 (2件)： ナノパターン ,  ブロック共重合体