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J-GLOBAL ID：201002233153708093   整理番号：10A0606757

RFマグネトロンスパッタリングにより調製したAu緩衝されたWO₃薄膜の光触媒活性

Photocatalytic activity of Au-buffered WO₃ thin films prepared by RF magnetron sputtering

著者 (3件)： CHOI Hyun Wook (Dep. of Physics, Univ. of Ulsan, Daehak-ro 102, Nam-gu, Ulsan 680-749, KOR) ,  KIM Eui Jung (Dep. of Chemical Engineering, Univ. of Ulsan, Ulsan 680-749, KOR) ,  HAHN Sung Hong (Dep. of Physics, Univ. of Ulsan, Daehak-ro 102, Nam-gu, Ulsan 680-749, KOR)
資料名： Chemical Engineering Journal  (Chemical Engineering Journal)
巻： 161  号： 1-2  ページ： 285-288  発行年： 2010年07月01日 
JST資料番号： D0723A  ISSN： 1385-8947  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Au緩衝されたWO₃薄膜をラジオ周波数マグネトロンスパッタリング法を用いて石英ガラス上に蒸着し,その光学的,構造的,および光触媒特性を調べた。調製した薄膜の光触媒活性をメチレンブルーの光分解測定により評価した。Au緩衝層の存在は光分解効率を約50%向上し,吸収端部を赤外側の長波長側にシフトし,薄膜表面の粗さを増加した。光励起された電荷はAuナノ粒子の表面プラスモン共鳴により分離された。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： マグネトロンスパッタリング ,  周波数 ,  プラズマ共鳴 ,  *スパッタ蒸着 ,  金 ,  バッファ層 ,  *酸化タングステン ,  *薄膜 ,  石英ガラス ,  *調製 ,  触媒活性 ,  光触媒 ,  ナノ粒子 ,  窒素複素環化合物 ,  芳香族アミン ,  スルホニウム ,  硫黄複素環化合物 ,  芳香族縮合化合物 ,  第三アミン
準シソーラス用語： 表面プラズモン共鳴

分類 (2件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

物質索引 (1件)： メチレンブルー

タイトルに関連する用語 (6件)： RFマグネトロンスパッタリング ,  調製 ,  Au ,  緩衝 ,  薄膜 ,  光触媒活性