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J-GLOBAL ID：201002233449977219   整理番号：10A0580900

ひ化インジウム上のオクタデカン酸の自己集合単分子層

Self-assembled monolayers of octadecanoic acid on indium arsenide

著者 (3件)： KNOBEN Wout (Holst Centre/IMEC, High Tech Campus 31, 5656 AE Eindhoven, NLD) ,  BRONGERSMA Sywert H. (Holst Centre/IMEC, High Tech Campus 31, 5656 AE Eindhoven, NLD) ,  CREGO-CALAMA Mercedes (Holst Centre/IMEC, High Tech Campus 31, 5656 AE Eindhoven, NLD)
資料名： Surface Science  (Surface Science)
巻： 604  号： 13-14  ページ： 1166-1172  発行年： 2010年07月15日 
JST資料番号： C0129B  ISSN： 0039-6028  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸化InAs上のオクタデカン酸(ODA)の自己集合単分子層(SAM)を作製,特性評価して,それらの周囲環境,溶媒,加熱に対する安定性を研究した。結果は緻密充填され,よく整列した単分子層の形成を確認した。周囲環境中のODA SAM貯蔵は,数カ月間,目立った劣化をもたらさなかった。ODAは有機溶媒によって表面から洗い流せるが,SAMは水の中で安定している。ODA SAMは周囲環境中120°Cまで安定しており,それ以上の温度ではODAが脱着し始める。200°C以上では,InAs基板の酸化が起こる。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： ヒ化インジウム ,  *自己組織系 ,  *単分子層 ,  酸化 ,  環境 ,  溶媒 ,  加熱 ,  安定性 ,  充填 ,  貯蔵 ,  劣化 ,  有機溶媒 ,  水 ,  脱着 ,  基板 ,  脂肪酸
準シソーラス用語： *自己集合単分子層

分類 (1件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (1件)： オクタデカン酸

タイトルに関連する用語 (3件)： ひ化インジウム ,  オクタデカン酸 ,  自己集合単分子層