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J-GLOBAL ID：201002233485134317   整理番号：10A0552811

形態制御した20nm以下のポリマーナノチップ/ナノ細孔の光学的及び表面特性

OPTICAL AND SURFACE PROPERTIES OF MORPHOLOGY-CONTROLLED SUB-20 NM POLYMER NANOTIPS/NANOPORES

著者 (3件)： HONG Chien-Chong (National Tsing Hua Univ., TWN) ,  HUANG Pin (National Tsing Hua Univ., TWN) ,  SHIEH Jiann (National Nano Device Lab., Hsinchu, TWN)
資料名： Technical Digest. IEEE Micro Electro Mechanical Systems  (Technical Digest. IEEE Micro Electro Mechanical Systems)
巻： 23rd Vol.1  ページ： 584-587  発行年： 2010年 
JST資料番号： W0377A  ISSN： 1084-6999  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 熱的ナノインプリントリソグラフィーで製作された,形態制御した20nm以下のポリマーナノチップおよびナノ細孔の光学的及び表面特性を検討した。本研究で,20μm以下の高アスペクト比微細構造を有する周期オレフィン共重合体(COC)のプラスティック表面を製作する技術を開発した。COCウェハー上にナノ構造をナノインプリントするのにシリコンモールドを用いた。この研究では,シリコンウェハー上に水素プラズマエッチンのみで製作した高アスペクト比の整列したシリコンナノグラスを用いた。ナノグラス構造の形態とアスペクト比はプラズマ加工の時間調節で行なった。COC表面のナノインプリントのためのシリコンナノグラスモールドは,モールド温度範囲が120°Cから220°Cで行なった。実験の結果,接触角は,モールド温度が高いほど大きくなった。また光の透過率は,ナノインプリントしたCOCの38%に対して高アスペクト比を設けたものは,94%には変化した。

シソーラス用語： 形状制御 ,  *重合体 ,  光学的性質 ,  表面性状 ,  *リソグラフィー ,  アスペクト比 ,  微細構造 ,  *オレフィン化合物 ,  共重合体 ,  ケイ素 ,  型 ,  プラズマ加工 ,  温度 ,  接触角 ,  透過率
準シソーラス用語： シリコン ,  *ナノインプリントリソグラフィー ,  ポリマ ,  モールド ,  *高アスペクト比

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  界面化学一般  (CB12010J)

タイトルに関連する用語 (4件)： 形態制御 ,  ナノ細孔 ,  光学 ,  表面特性