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J-GLOBAL ID：201002234846354976   整理番号：10A1037512

PDMS/PHPS溶液を浸漬被覆することによるPBT基板上へのシリカ膜の合成およびキャラクタリゼーション

Preparation and Characterization of Silica Films on PBT Substrate by Dip Coating with PDMS/PHPS Solution

著者 (4件)： SHIMOMURA Akio (Univ. Fukui, Fukui, JPN) ,  HORIKAWA Hajime (Univ. Fukui, Fukui, JPN) ,  OGIHARA Takashi (Univ. Fukui, Fukui, JPN) ,  SHIMOMURA Junko (Shimomura Shikkiten Co., Ltd., Fukui, JPN)
資料名： Transactions of the Materials Research Society of Japan  (Transactions of the Materials Research Society of Japan)
巻： 35  号： 3  ページ： 689-692  発行年： 2010年09月 
JST資料番号： L4468A  ISSN： 1382-3469  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： PHPS(ペルヒドロポリシラザン)は,TEOSよりも低温で緻密なシリカ膜が生成することが報告された。しかし,PHPSをプラスチック基板上に被覆すると,熱膨張係数の違いからシリカ膜に亀裂が生じる。筆者らは,PBT基板にPMMAを添加するとこの亀裂がある程度改良されることを見出した。本研究では,PMMAの代わりにPDMS(ポリジメチルシラザン)を用いると亀裂のないシリカ膜が得られることを見出した。PBT基板をPDMS/PHPSのジブチルエーテル溶液に浸漬被覆し,170°Cで0.5h熱処理してシリカ被覆膜を作製した。得られたシリカ膜は表面が滑らかで,厚み160nm,PDMSが50mass%で亀裂フリーであった。膜のVickers硬度は,PDMS含量と共に低下したが,鉛筆硬度は,PMDS含量に拘わらず9H一定であった。

シソーラス用語： *ポリブチレンテレフタレート ,  基板 ,  *セラミック膜 ,  *浸漬 ,  *セラミック被覆 ,  *ポリシラザン ,  被覆材 ,  化学合成 ,  キャラクタリゼーション ,  亀裂 ,  硬度 ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ ,  PBT【重合体】 ,  PDMS【ポリシラザン】 ,  PHPS【化合物】 ,  *ポリジメチルシラザン ,  *ペルヒドロポリシラザン

分類 (3件)： 非金属材料へのセラミック被覆  (YC02040K) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

引用文献 (6件)：

• T. Kubo, H. Kozuka and E. Tadaoka, J. Sol-Gel Sci. Technol., 31, 257(2004).
• T. Kubo and H. Kozuka, J. Ceram. Soc. Jpn., 114, 517(2006).
• T. Kubo, E. Tadaoka and H. Kozuka, J. Mater. Res., 19, 635(2004).
• J. Shimomura, T. Ogihara, N. Ogihara, H. Kozuka, K. Kato and H. Suzuki, J. Ceram. Soc. Jpn., 115, 556(2007).
• H. Horikawa, T. Ogihara, A. Shimomura and J. Shimomura, Electroceramics in Japan, 12, 161(2009).

タイトルに関連する用語 (7件)： PDMS ,  PHPS ,  溶液 ,  浸漬被覆 ,  PBT ,  シリカ膜 ,  キャラクタリゼーション